Semiconductor Portal

ブログ

» ブログ

タブレットPCとスマートフォンが��]に�x場浸透する背景を分析II

タブレットPCとスマートフォンが��]に�x場浸透する背景を分析II

情報端�機�_�x場で�B�となっているスマートフォンとタブレットPCが��]に�x場浸透する背景を�i�v(参考�@料1)に�き分析し、さらに今後、携帯情報端�機�_の�x場浸透を�jきくサポートすると考えられる��接触給電についても考察する。�盜颯轡好灰轡好謄爛瑳劼�圓辰�2010~2015�Qの6�Q間に渡るインターネットトラフィックの予�Rを紹介した�i�vの�@料の中で、最も成長率が最も高いモバイルデータトラフィックについて、今�vはその詳細を分析する。 [→�きを読む]

優位なグローバル�争�に向けたBig Playersの動き、�~け引き

優位なグローバル�争�に向けたBig Playersの動き、�~け引き

�例のMobile World Congress(Barcelona, Spain)から、次には2011 IEEE International Solid-State Circuits Conference(ISSCC)(San Francisco)を�呂┐襪海離織ぅ潺鵐阿蓮▲魯ぅ謄�板cが次の優位なグローバル�争�の構築に向けて虎���q�q、�Xく�\えるということか、世�cを引っ張る�j�}�Q社からの戦�S的な発表、�~け引きが相次いでいる感じ�気�△襦��鯑韻犬�靴�Obama�j統�襪離ぅ鵐謄觜�賈�笋�∈cQはさらに拍�Zをかけている。 [→�きを読む]

��}繚乱の様相を呈してきた半導��のネット�x場

��}繚乱の様相を呈してきた半導��のネット�x場

�盜顱▲薀好戰�垢買Q初に今�Qも華やかにコンシューマエレクトロニクスショー(以下 CES と�S称)が開かれた。この�t�会の��模は�jきく今�Qも約12万人が参加した。この��模がいかに�jきいか?セミコンジャパンと比べられる。SEMIの広報によればピークだったセミコンジャパン2000�Qと等しい人数なのだ。 [→�きを読む]

Mobile World Congress 2011参加に�瓦垢詁鐱椶皮L外の企業との�jきな差

Mobile World Congress 2011参加に�瓦垢詁鐱椶皮L外の企業との�jきな差

今�vが3�Qぶり3�v�`となるMobile World Congressに参加するため、成田に来た。スペインのバルセロナで開�されるこの�t�会は世�c最�jの携帯機�_のショーである。ここには携帯電�Bメーカーや通信キャリヤだけではなく、携帯向け半導��チップメーカー、ファブレス半導��メーカー、IDM、さらには���メーカー、コンテンツサービスベンダー、ソフトウエアベンダーなど携帯機�_に関連するあらゆる職�|が集まる。 [→�きを読む]

半導���業における「風を読む」IV~2011�Qのシリコンウェーハ出荷�C積の動向

半導���業における「風を読む」IV~2011�Qのシリコンウェーハ出荷�C積の動向

��四�v�`の「風を読む」は、「シリコンウェーハ出荷�C積」の�x場動向についてである。今�v、GDPとシリコンウェーハ出荷�C積�x場との数学的相関関係、およびこの数学的相関関係を�W�したシリコンウェーハ出荷�C積に�瓦垢詬襲R�}法、さらに半導���x場とシリコンウェーハ出荷�C積との数学的相関関係を紹介する。 [→�きを読む]

半導��のみならず我が国の今後のプレゼンス、如何に?

半導��のみならず我が国の今後のプレゼンス、如何に?

我が国は、研�|開発の�|を連携して育んでいくのは�u�}であるが、ビジネス化にもっていくのは不�u�}である、という見�機��bが�機垢能个討�襦�盜颪鉾�靴身焼��の�|を�官学の共同研�|および�H彩な応��\術を加えて世�cを引っ張る位���韻砲發辰討い辰寝罎�颪任△襪�▲咼献優垢離哀蹇璽丱覯修漣t開度が高まるにつれて��い討い韻覆�覆辰討④討い襦H焼��に限ったことではなく、関係するいろいろな切り口の場での問��T識である。 [→�きを読む]

新����開発に�㌫廚�b理的�画管理と���眈堍に�瓦垢觴糠�

新����開発に�㌫廚�b理的�画管理と���眈堍に�瓦垢觴糠�

この度、筆�vはCCDイメージセンサの�業化に成功した元ソニー株式会社執行役�^常��妊魁璽櫂譟璽肇螢機璽船侫Д蹇爾任△覬枌卆���龍叛咾亡悗靴董��h、執筆する役を担った。�井康夫�「����vの�lかさを創出したイノベーター」(参考�@料1)出版のためである。これを通じ�Hくのことを学んだので、書籍では語り尽せなかった�霾���に開発責任�v、�\術�vの心構えに通じる点をまとめたい。 [→�きを読む]

なぜ日本にベンチャーは育たないか~Siバレーのオープンイノベーションに学べ

なぜ日本にベンチャーは育たないか~Siバレーのオープンイノベーションに学べ

「日本のベンチャーキャピタルの投�@は、2007�Q3月期に2800億�まで拡�jしたものの、2011�Q3月期に至って800億�まで��T下した。これはひどい。ひどすぎる。�業家�@神は萎縮する�k�気如⊇j企業は本気でベンチャーを���しようとはしていない。」日本アジア投�@の�y本剛��賄任Ⅷ里討襪茲Δ砲弔屬笋い拭� [→�きを読む]

$300 Billion��模から今後へ、求められる�k層の融合と連携

$300 Billion��模から今後へ、求められる�k層の融合と連携

�盜�SIAからの世�c半導��販売高の月次定例発表、今�vは2010�Qを締めるタイミングであり、2009�Qから31.8%�\の$298.32 Billionと、史�嶌嚢發糧稜箙發箸覆辰討い襦�つc不況の試�aを乗り越えて、新興経済圏が拡�jを引っ張るとともに、絶え間のない新�\術、新分野の開�がこの�T果を導いている。 販売高の�j�に達した今、これからに向けては、先進圏と新興圏、設�と���]、など要となる切り口での�k層の融合と連携が求められている。 [→�きを読む]

�`�Yに向かう�X気、�Pびていく�C白さ、�T集する環境づくり

�`�Yに向かう�X気、�Pびていく�C白さ、�T集する環境づくり

�盜餽餔cの��聴率が高い時間帯に行われるObama�j統�襪涙k般教書演説とのことであるが、�~人月�陸ロケットに向けて�\えに�\えたあの頃の�X気と�O信を今こそと訴える下りが、先進経済圏の奮�を�任�嗄�淵瓮奪察璽犬箸靴惇xいてくる。�j容量化、高�]化、低電�化に向けて、国内�Q社が切��}磨、世�cを引っ張るに至った頃の我が国の半導��業�cに通じるところを感じている。 [→�きを読む]

<<�iのページ 117 | 118 | 119 | 120 | 121 | 122 | 123 | 124 | 125 | 126 次のページ »

麼嫋岌幃学庁医� 忽恢娼瞳弌楳養壓�鉱心| 晩云互賠嶄猟忖鳥壓�鉱刊�篇撞| 怜匚DV坪符匯曝曝| 仔弼眉雫窮唹利| 忽恢娼瞳晩昆天胆壓�| a忽恢撹繁窒継篇撞| 撹繁心頭仔a壓�鉱心| 消消撹繁忽恢娼瞳匯曝屈曝| 天胆忽恢撹繁娼瞳屈曝但惚篇撞| 繁繁曇繁繁螺繁繁壽繁繁訪| 胆忽匯雫寄仔匯頭窒継利嫋| 忽恢低峡議壓�鉱心| 消消忝栽湘弼忝栽97卅繁醍狭 | 溺抑蝕壷引将煽弌傍| 嶄猟忖鳥晩昆匯曝屈曝音触| 晩昆冉巖av涙鷹匯曝屈曝眉曝 | 湘湘壓�娼瞳篇撞| 天胆総窃及匯匈| 冉巖天胆晩昆忝栽鯵肇阻| 槻繁議j涌溺繁議j篇撞| 怜匚涙孳飢俤俤只鮫窒継| 弼玻玻玻玻冉巖及匯| 忽恢坪符訪訪寄頭篇撞芙曝壓� | 忽恢娼瞳篇撞匯曝屈曝眉曝膨 | 消消消鞭www窒継繁撹| 晩昆娼瞳匯曝屈曝眉曝忽囂徭崙| 冉巖忽恢爺銘消消忝栽| 天胆窮唹垪匯曝屈曝眉曝| 冉巖篇撞壓�鉱心利峽| 槻忽富定知窮唹| 窒継鉱心忽恢利峽低峡議| 娼瞳晩昆天胆匯曝屈曝眉曝 | 窒継篇撞www| 忽恢間三扉醍斤易壓�殴慧| 18娼瞳消消消涙鷹怜匚牽旋 | 天胆景洋bbwbbwbbw| 冉巖弼撹繁利匯屈眉曝| 槻繁j涌序溺繁p涙孳飢壓�鉱心| 壅侮泣赱穂捲赱湊寄阻利嫋| 娼瞳涙鷹忽恢徭恢田壓�鉱心築| 亜喘薦泣忽恢狹酔壓�鉱心|