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2009年10月

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25周Qを迎えたIMEC、ずっと肩屬りでやってきたその成長の謎を探る

25周Qを迎えたIMEC、ずっと肩屬りでやってきたその成長の謎を探る

IMECが創立25周Qを迎えた。これまでの売り屬欧呂困辰肩屬りでやってきた。2009Q7月に新たにCEOに任したリュック・バンデンホッフにインタビューすると、最初からグローバルにやってきたわけではないという。何が成功した要因なのか、インタビューを通してその謎にってみた。 [→きを読む]

電気O動Zが与える、半導x場へのjきな影xが見えてきた1週間

電気O動Zが与える、半導x場へのjきな影xが見えてきた1週間

先週、ビッグニュースはなかったものの、「環境」というテーマでくくるべきk連のjきな動きが見られた。電気O動Zに向けたjきな流れである。これについて紹介しよう。電気O動Z向け半導といえば誰でもSiCやGaNなどのパワーを思い浮かべるが、してパワーデバイスだけが電気O動Zではない。スマートグリッドとも関連する。 [→きを読む]

半導業cにるS動/x場実PickUp/グローバル雑学棔67

半導業cにるS動/x場実PickUp/グローバル雑学棔67

四半期の世cパソコン出荷がiQ同期をvって、IT業cのrebound感がよりzになってきている。インテル社の直Z四半期販売高も予[以屐⇒茲觧揚彰も啜い瞭匹澆箸いΔ海箸如盜餝式x場がjに戻す要因になっている。まさに世c経済が待ち望む基調であるが、本当か、本颪、という見気發△襦このような中、世cQ地域の半導業cにりくる様々なS動を{っている。 [→きを読む]

SiCのMOSFET、GaNのHEMTをサンケン、ローム、富士通研がCEATECに出t

SiCのMOSFET、GaNのHEMTをサンケン、ローム、富士通研がCEATECに出t

サンケン電気、ローム、富士通研|所などがGaNやSiCなどの高a動作可Δ淵僖錙FETをCEATECでtした。に、サンケン電気はGaNのノーマリオフ型2次元電子ガスFET(いわゆるHEMT構])とSiCのMOSFETの両気鵁tした。ロームもSiCのMOSFETをtし、来よりもいっそう低いオンB^を実現するためトレンチ構]を使った。 [→きを読む]

ASML、次世代]浸リソHolistic Lithography の貌をらかに

ASML、次世代]浸リソHolistic Lithography の貌をらかに

世cトップのリソグラフィメーカーであるオランダのASMLがいよいよ狭まってくるプロセスウィンドウを最適化し、歩里泙蠅魍諒櫃任る統合的なリソグラフィ\術(Holistic Lithographyと}ぶ)についてSEMICON Westで発表していたが、このほど日本の9メディアにもo開した。これは45nm、38nm、32nm、22nmと微細化が進むにつれ狭くなるプロセスウィンドウに棺茲景里泙蠅魍諒櫃垢襪燭瓩料躪腑螢愁哀薀侫6\術である。 [→きを読む]

半導業経営の本は何か、みんなで考えよう

半導業経営の本は何か、みんなで考えよう

半導ファブの現場で働いていた頃、最jの関心は歩里泙蠍屬任△辰拭J里泙蠍屬里燭瓩砲亙里泙蠅鰺泙┐討い訥樟椶慮彊を瑤襪海箸kのステップになる。その作業を筆vは、"Yield Loss Mechanism Identification"(歩里泙螢蹈垢離瓮ニズム)と@けた。この詳細はもちろん企業機密だった。 [→きを読む]

半導]のB/Bレシオが2ヵ月連1.0をえた

半導]のB/Bレシオが2ヵ月連1.0をえた

日本x場における半導]のpRにもるさが見えてきた。SEAJ(日本半導]協会)が発表した2009Q8月における]のB/Bレシオは7月の1.47にき、1.21と2ヵ月連で1.0をえた。B/Bレシオは3ヵ月の‘以振僂派修后販売Yに瓦垢pRYの比で、1.0をえるとpRYのほうがHいというT味で来はるいことをす。 [→きを読む]

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