中国恐るべし!半導国際会議ISSCCでさらに躍進する中国勢
昨Q5月に、「半導デバイス・v路国際会議に見る日本の劣勢、半導研|vの奮を期待」として、VLSIシンポジウムやISSCCなど世cトップクラスの半導国際会議で中国勢が躍進するk機日本勢が凋落してきている向を紹介し、日本半導復権のための提言を行った(参考@料1)。
半導のオリンピックとも}ばれるInternational Solid-State Circuits Conference:ISSCCが盜颯リフォルニアΕ汽鵐侫薀鵐轡好海如2025Q2月16〜21日に開されているが(参考@料2)、中国勢の躍進がさらに顕著になったのに瓦靴董日本勢の採IP数がさらに少してしまいVめがかからなかった。
ISSCC 2025のb文投M数は914Pと、ivの「ISSCC 2024」から4.7%(41P)\加し垉邵嚢發箸覆辰拭r来の応募P数は600Pi後だったが、昨Q、に873Pに\えたが、今Qはさらに\加した(図1)。中国からの投Mが\しているためである。採I数はivから12P\え、246Pだった。採I率はivとほぼ同じ26.9%で、相変わらずの狭き門となっている。
図1 ISSCCの投Mb文数と採Ib文数の推 ―儘Z:ISSCC 2025 Tokyo Press Conference
採I数を地域(j陸)別に見ると、アジアが165Pと最もHく、の3分の2以屬鰒めている。櫃57P、欧Δ28Pだった。アジアの採I数はivから17P\加したのに瓦掘櫃7P、欧Δ2P少した。
国/地域別に見ると、iv、i々vにいて中国(港/マカオ含む)がj学を中心に今vさらに採I数をPばした。中国の採I数は92Pと最Hで、盜顱55P)、f国(44P)にjきく差をつけた。Bj学およびマカオj学の採IP数はそれぞれ15Pと驚異的である。{華j学は13P、f国のKAIST(科学\術振興のための国策j学)は10P採Iされている。
中国からの発表は、EUVリソグラフィが使できないこともあり、先端ロジックや先端メモリの発表ではなく、v路設の工夫でM負できる電源v路やRFv路、エッジ端の推b向けに~望なCompute-in-Memoryの発表が`立つ。いずれも今後Pびることが予[される半導の最終をT識した発表である。
いまやj学からの発表が8割
いずれの地域でも採Ib文はj学からのものが\加向にあり、ISSCC2025では、j学:企業:研|機関の比率は79:19:2だった。新たな半導v路設は以iのような企業ではなく、j学が中心になってきている。中国は投M数がHいだけでなく、レベルも常に高くなっており、採I率もQ々向屬靴討い訶世R`される(図2)。これは最ZのVLSI SymposiumやIEDMにも共通した顕著な動向である。まさに、「中国恐るべし!」のX況が擇泙譴討い襦
図2 国・地域別採Ib文数の推 中国からの発表がここ数Q\しているのに瓦靴篤本勢は長期少向 出Z:ISSCC 2025 Tokyo Press Conference
日本からのb文は少向で今Qはわずか8P
ISSCC 2025で、中国、盜顱∠f国、湾が2桁採Iされけているのに瓦掘∋椎阿覆ら日本からのb文の採I数は長期的に少向で、今Qはわずか8Pで、ivより3P少してしまった。日本勢陲糧表P数が、中国やf国のj学の発表P数に及ばないXになってしまっている。
東Bj学、東B科学j学(旧東B工業j学)、キオクシアは、それぞれ2P、ソニーセミコンダクタソリューションズとj阪j学のb文が1Pずつ採Iされた(図3)。昨Q2P採Iされたルネサスエレクトロニクスは、今Qは消えてしまったが、昨Q消えた東Bjとソニーが今Qは復した。
図3 ISSCC2025で採Iされた日本勢の発表8Pの\術分野 出Z:ISSCC 2025 Tokyo Press Conference
日本半導噞の長期凋落の反省として、「いかに作るか」から「何を作るか」をもっと_しなければならぬと言われて久しいが、日本Bは相変わらずTSMCy本工場やラピダスh歳工場など半導](ファウンドリ)に巨Yмqをけてきた。やっと、_いを屬欧独焼設v育成にも投@を始めようとしているが、半導の国内要を喚するためには、むしろシステム設v、半導応\術v、半導を搭載した最終の開発vなどを育成・мqすべきだろう。
参考@料
1. K、「半導デバイス・v路国際会議に見る日本の劣勢、半導研|vの奮を期待」、セミコンポータル、(2024/05/15)
2. K、「ISSCC 2025プレビュー:b文投M数は914Pで垉邵嚢發新」、マイナビニュースTECH+、(2025/02/07)