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ISSM2018:AIとIoTで変貌~げる半導]

半導]・攵に化したユニークな国際会議「半導攵媞際シンポジウム(26th International Symposium on Semiconductor Manufacturing; ISSM 2018)」が昨Q12月に東B都内で開された。ISSMは「半導]のノウハウをサイエンスに」を基本スタンスに、1992Q以来、毎Q、半導攵\術vの議b・交流を通じて、新たな半導攵\術の芽を育てると共に、半導攵\術を科学する「新しい流れ」を作り出してきた。

ISSM2018会場風景 (両国KFCホールにて著v撮影)

ISSM2018会場風景 (両国KFCホールにて著v撮影)


AIをしてスマートな半導工場をめざす

今vは、半導]の攵掚の向屬里燭瓩痢嵜郵(AI)の」に関する発表が初めて登場すると同時に最jのセッションテーマとなった。IoT時代を迎え、様々な|類の半導]やプロセスXのH角的なセンシング\術がさらに進化してきており、半導工場ではH数のセンサで収集されたj量のデータを扱えるようになった。しかし、当初はこれらのデータは人}でH変量解析し、判し、現場へフィードバックをかけてきたが、データ収集が先行し、データの~効は科ではなかった。しかし、最Z、AI\術の登場でIoT\術とAI\術が融合し、人}を介さないビッグデータの処理が可Δ砲覆蝓▲螢▲襯織ぅ爐離廛蹈札杭播化が可Δ砲覆辰拭これによりプロセスU御性向屐]歩里泙蠅慮屐∪攵掚向屐←@材J低動などに新たな妓性を見出し、高効率のスマートファブの実現が可Δ砲覆蹐Δ箸靴討い襦IoT/AIの{い風をpけて、半導]はダイナミックに変貌を~げようとしている。

fSK HynixもTSMCもAIで半導]効率化

f国SK Hynixは、基調講演の中で、社を挙げてAI(マシンラーニングやディープラーニング)を最j限にしスマートファクトリを`指していることをらかにした。
半導]現場では、パターニング不良やプロセスL陥発擇覆匹量筱が繰り返し登場しているにもかかわらず、いままでは\術vのスキルと経xで微細化プロセスになんとか棺茲靴討た。しかし、最Zは、Q工が高度化するとともに、工間の相互依T性が複雑化し、プロセスステップ数が\えて攵サイクルタイムが長引くことで、不良プロセスを定し問解するのがMしくなってきた。もはや\術vの経xやスキルに依Tした伝統的な問解の桔,任官できなくなってきた。SK Hynixでは社を挙げてML(Machine Learning、機械学{)によるプロセス最適化、ディープラーニングをしたFDC(Fault Detection and Classification、L陥検出・分類)、およびセンサとAIをしたTTTM(Tool-to-Tool Matching、 機差調D)などの積極でスマートファクトリを実現を`指しているという。「x場の要に応じた適切なサイズの工場を建設し、AIをして異常の予防保を徹fし、最小のインプットでx場の要に応じて適切に官できる攵Uを敷く」のが`Yだという。

湾TSMCもd待講演の中で「フルオートメーションの人}を介さないインテリジェントな半導]を実現するためにマシンラーニングをはじめとするAI\術のがLかせない」と述べていた。k般講演では、東Bエレクトロン、東・東メモリ、ルネサス、_富士通、ソニー、パワーチップ、国立湾j学などから半導プロセスにおけるAIの例報告が相次ぎ(参考@料1)、IoTやAIが単なるブームの段階をえ、半導]分野でも実化の華を咲かせようとしていることを実感させられた。なお、本シンポジウム冒頭のチュートリアルセッションでセミコンポータル集長の氾跳二が「AIの半導噞へのインパクト」としてAI入門ともいえる講Iを行った。

AIチップを積極的にしてスマートファブを実現しよう

Mが現役のISSMb文考委^長をめていた1990Q代ごろ、組E委^長はIntelのMike Splinter(同社]本霙后△里舛Applied Materials社長)だったが、彼はISSMで参加vに向かって、「Sさんは、半導デバイスや ]にjいに貢献してはいるが、半導のW便性を最もpしていない人たちだ。もっと半導チップをしようではないか」と言っていたのを思い出した。半導噞は、AIチップを]して顧客に使ってもらうだけではなく、Oらも率先してして他噞の}本となるようなAIベースのSmart Fab/Intelligent Manufacturingを実現すべきだろう。この点では欧櫃鮹羶瓦哩L外勢のDり組みが先行しておりISSM、AEC/APCシンポジウムなどでの日本からの発表は、Q\術vが担当する個別のやプロセス(のそのまたk霾)へのAI適に里泙辰討い訃豺腓ほとんどであるが、トップダウンによりファブへのt開が望まれる。

IoTとAIの融合によるAEC/APC(先進的・プロセスU御)の飛躍的、いやむしろ破s的な進化で、半導]はダイナミックに変貌を~げる予感がしている。次vのISSMやその姉妹会議であるAEC/APCシンポジウム(2019Q11月13日に東Bで開予定)が楽しみである。H数のにまたがるAPCやそのファブへのt開の成果発表を期待したい。

参考@料
1. K:「豸を集める半導]プロセスの最適化・攵奟率向屬妨けたAI」、(ISSM2018における半導デバイス・]メーカーQ社の\術発表の内容紹介)
マイナビニュース、2019.1.10.

Hattori Consulting International代表 K陝
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