半導デバイス・v路国際会議に見る日本の劣勢、半導研|vの奮を期待
IEEE Symposium on VLSI Technology and Circuits (通称:VLSIシンポジウム)は、日本と盜颪粒慍餞愀固vの尽で1981 Qに始まった国際会議で、いまや、半導デバイス\術中心のIEDM(International Electron Device Meeting)、半導v路中心のISSCC(International Solid-State Circuits Conference)と並ぶ世c3j半導国際会議のkつに成長してきている。IEDMとISSCCは、盜饑が中心になって盜馥發世韻燃されているのに瓦靴董VLSIシンポジウムは日本(B都)と盜顱淵魯錺ぁ砲破蓊Q交互に開されている。
この点で、 VLSIシンポジウム委^会委^長の田忠広(東Bj学)は、VLSI Symposiumの「日本主導の最高峰国際会議としての価値」を喞瓦靴討い襦1981Q当時、「アメリカと日本がVLSI\術開発の2j拠点」(1vVLSIシンポジウム開豼T書)だった。いまは、どうだろうか。今vのシンポジウムの地域・国別投MP数や採IP数については、Jに報告されているが(参考@料1、2)、ここでは見やすいグラフでご覧いただこう(図1参照)。筆vがQしたQ地域・国別の採I率を表1にす。
図1 VLSI Symposium 2024の地域・国別投MP数と採IP数 出Z:VLSI Symposium委^会
地域・国別の投MP数、採IP数、採I率は、以下のようであった。
表1:VLSI Symposium 2024の地域・国別投MP数・採IP数・採I率(投MP数順、応募P数9P以下省S) 出Z:VLSI Symposium委^会の@料を基に筆v作成
日本勢の採I率はトップだが…
中国、f国、Α欧Α湾の投MP数が軒並み3桁であるのに瓦靴篤本は42Pでシンガポール並みであった。日本は、かつてトップ争いしていた盜颪呂發箸茲蝓欧Α∠f国、湾、そして成長してきている中国に差をつけられている。
発表機関別採IP数では、fSamsungが1位(23P)、f国の国立理工Uj学院j学Korea Advanced Institute of Science and Technology(KAIST)が2位(18P)とf国は企業もj学も頑張っている。
日本からの発表は、ほんの数j学、c間企業数社に限られてしまっており、投MP数・採IP数ともivより少して「落日の日本」Xである。他国は、折からの半導ブームに乗って\加向にあるというのに。
いつものことではあるが、「日本は採I率ではトップである」ことを日本のプログラム委^会は喞瓦靴討い襪、数もなりとばかりに、j量に投Mし採IP数が毎Q\加し、がめきめき向屬靴討い訝羚饑をiにして喜んでばかりはいられまい。
ISSCCでも中国・f国勢がj躍進
今Q2月にサンフランシスコで開されたISSCCでも、VLSIシンポジウムと同様の向が見られ、中国やf国の採Ib文数が\加向にあるのに、日本勢は長期凋落向だ。(図2参照)
図2 ISSCCの地域・国別採Ib文数の推 ―儘Z:IEEE ISSCC
日本半導を復権させるためには…
日本では、TSMCのy本誘致や新興ラピダスへのBмqばかりに`が行きがちであるが、いずれも顧客から]を引きpける]pm業(ファウンドリ)であって、基本的に、新たなv路やデバイスや応を創出する企業ではない。しかし、これらの在日ファウンドリに]を委mするためのデバイスやv路やシステムのアイデアを日本からどんどん創出するチャンス到来ととらえることもできよう。半導研|vの奮を期待したい。
]はファウンドリに任せるのなら、むしろ国を挙げた半導企画・設および最終開発啣什やそのための専門人材育成・教育にRする要があろう。為vは、今まで冷遇してきた半導v路・システムやその応研|に瓦垢觚|\成についてs本的に改すべきだろう。
参考@料
1. 氾 建二、「VLSI Sympo、投M数・採I数とも最H級、Technologyの採Ib文はf国トップ」、セミコンポータル、(2024/04/26)
2. K、「VLSIシンポジウムプレビュー」、マイナビニュースTECH+、(2024/05/07)