f国Bは世c最(d┛ng)のニッポン電子材料の_要性を再確認せよ!
日f易Co(h┫)がく中で、f国Bの]ち出した_要材料の国僝推進策については、くもって困ったものだと言うしかない。毎Q2000億Zい開発мq金を拠出し、半導、]晶、O動Zなどの材料もしくは素材をf国企業が攵できるようにするというのだ。これを聞いた材料j(lu┛)}の日本企業はx々(かか)j(lu┛)笑いしてこう言い放った。
「やれるものならやってみろ、と言いたい。基本素材を開発するには数蚊Qの歳月を要とする。この間、この素材開発はくW(w┌ng)益を擇泙覆い錣韻世ら、f国企業の経営vがこれに耐えられるはずがない。とにかく、すぐ儲からないとダメ、というのが彼らのやり(sh┫)だ。であるがゆえに、ひたすら日本のコピーをしてj(lu┛)量攵にeち込み、x場を配していく。しかし、材料、素材にはこの(sh┫)式はく通しない」。
今vの日本Bの輸出U(ku┛)でk番問となったのが、フォトレジスト、フッ化水素、フッ化ポリイミドの3つである。とりわけフォトレジストは半導のj(lu┛)材料のひとつであり、日本企業が世cシェアの90%以屬魏,気┐討い襪里任△襪ら、f国Bのあわてぶりはひどいものであった。つまりは、フォトレジストがなければ、半導メモリでトップをいくf国勢、すなわちサムスンやSKはものを作れない。まさにU(ku┛)裁にZいものであった。(しかし、後からこのレジストはメモリ向けではなかったことが判)(集室R1)。
さてさて、この輸出U(ku┛)がこれからもくのであれば、この20Q間にわたって構築された日中fのバリューチェーンは少しく影xをpけることになる。日本からf国にわたるコア・材料はf国が要とする分の53%も~している。f国はこうした日本勢の材料を使っての中間材を作り、中国に輸出する。このf国からの中間材は中国が要とする分の79%をめるのだ。そして中国は最終完成を作り世cに出荷し、圧倒的なシェアを築いていく。(sh━)中易戦争の化もあって、中国も最Zは思うように身動きがDれず、このCj(lu┛)なバリューチェーンはj(lu┛)きくヒビが入ってくるだろう。
ちなみに日本から輸出する半導材料で輸出割合のHいものとしては、以下の`が挙げられる。半導]エポキシ`脂は87.4%、半導ウェーハ]の石英るつぼは99.2%、半導]の^真プレートとフィルム76.6%、そして基(chu┐ng)材料のシリコンウェーハ=52.8%、i記のフォトレジストが93.2%となっている。
迷走モードをけるf国Bはこの間、中国やロシアの材料でき換えられると発表したが、半導業cの人たちはこれをせせら笑っていた。なぜなら、日本ほどの高純度で作ることはMしく、もしき換えられたとしても工場の歩里蠅k気に低下するわけだからくT味がないことになる。
「しかもf国Bはフォトレジストのほとんどがカスタムだということがわかっていない。メーカーごと|ごとにカスタマイズして合わせ込む。このことについては日本企業のに出るものはいない。しかも、歩譲って中国やロシアを使えたとしても、レジストをで試作しまともに流せるようになるには3Qも5Qもかかるのだ。これからもf国半導は日本企業の材料、素材に依Tするしかない」(i記の材料j(lu┛)}(chu┐ng)陝法
フォトレジスト最j(lu┛)}JSRの設立は1957Q、二番}の東B応化工業の創業は1940Q、さらに信越化学の設立は1926Q、住友化学は同1925Qであり、みな長い歴史をeつ鬩F企業なのだ。彼らが、どれだけのZ労と長いQ月をかけて最高レベルのを作り屬欧燭についてはf国Bの認識は甘いという以外にないだろう。
集室R1)U(ku┛)裁ではEUVフォトレジストを?y┐n)?j┫)としており、EUVレジストが要とする7nm以下の微細化\術はメモリではなくファウンドリロジックに要。サムスンはファウンドリにを入れ始めた矢先にこの通商問がきたために慌てたのである。