最先端リソ�\術最�i線に�瓦垢觚讐爾塁x場・���]拠点の動き
半導��最先端�\術の進�t、進捗が披露されるタイミングであり、微細化���]�\術を引っ張る最先端リソ�\術の最新�X況が発表されている。extreme ultraviolet(EUV)が最�~��ではあるが、ほかの代���\術もいくつか�Pびてい
る�X況をここ何�Qか�pけ�Vめてきている。適��して拡�j(lu┛)する�x場が����的に望めて初めて�vっていく経済学というものをこのところ�Q々繰り返し感じるなか、�B元の半導���x場および���]拠点の世代の�，衒僂錣蠅�また新たに見られてきている。
≪リソ最�i線≫
SPIE Advanced Lithography Symposium 2012(2月12日〜16日：San Jose, California)が開��(h┐o)され、気のつく内容を�{ってみると、まずは最�i線に挑む�j(lu┛)�}プレーヤーの�k角、Samsungからは、EUVツール開発について次の�R文である。
◇Samsung Resets EUV Roadmap for Memory Scaling (2月14日��け SemiMD.com)
→SamsungのMaterials and Device Research Center、senior vice president、U-In Chung��(hu━)。power sourcesなど��れの��中、Samsung Electronics Co. Ltd.が同社ロードマップを刷新、EUVツールについて次の通り望む旨。
166 Watt source�、�2013�Q�i半までに
250 Watt source →2013�Q後半までに
リソ�\術最�i線の現�Xの�����気�、以下に端的に��(j┤)されていると思う。
◇Darkhorse litho technologies stay in NGL race (2月15日��け EE Times)
→extreme ultraviolet(EUV)リソの�Hくの�мq�vには��(r┫n)常に残念なことに、 該�\術の量�氦入の��れが��いて、少し�iはほとんど終わりと考えられていたnext-generation lithography(NGL)��争に他の興味をそそるリソ�\術が加われるようになっている旨。EUVが残る�\術的障害を�ﾀK、主流リソ�\術として193-nm光リソを�M(f┬i)ぐとリソcommunityの�j(lu┛)��(sh┫)は依��見ているが、EUVのつまずきがnano-imprintリソ, e-beam direct writeおよびホットな新顔、directed self-assembly(DSA)リソなどの�\術に可��性を残している旨。
このSymposiumと並行して、欧�Δ�らもリソ�\術関連のアップデートが発表されており、まずはフランスのCEA-Letiからである。
◇Maskless e-beam litho good for 14-nm , says CEA-Leti (2月13日��け EE Times)
→フランスのリサーチ機関、CEA-Leti(Grenoble, France)発。22-nm lines and spaces(l&s)がdirect-write e-beamリソ�\術により�收�され、その解�掬戮�14-および10-nmロジックprocessingノードの両��(sh┫)についての要求仕様に適合する旨。加えて、CEA-Letiで使��のmultibeamリソ試作機を開発しているMapper Lithography BV(Delft, The Netherlands)とCEA-Letiが、コラボR&Dプログラム、Imagineのさらに3�Qの��長を発表の旨。
これに�}応する2つの以下の動きである。
◇TEL joins CEA-Leti programs on DSA, maskless litho (2月14日��け EE Times)
→Tokyo Electron Ltd.が、CEA-Leti(Grenoble, France)主��(h┐o)の2つのコラボ・リソ研�|プロジェクト、すなわちdirected self-assembly(DSA)についてのIdealおよびmaskless multibeam direct-write e-beamリソ�\術の�t開・�]�屬欧鬟汽檗璽箸垢�Imagineに参画する旨。
◇TSMC set to receive Matrix 13,000 e-beam litho machine (2月17日��け EE Times)
→Mapper Lithography BV(Delft, The Netherlands)発。最初のMatrix pre-production e-beam masklessリソ・システムの1つがTSMC(Hsinchu, Taiwan)に入る運び、TSMCはプロセス開発およびデバイス試作のためにMapper��pre-alpha 300-mm multiple-electron-beam masklessリソ・プラットフォームを��いてきており、CEA-Leti(Grenoble, France)据 え��けのリサーチtoolを��いるImagineコラボR&Dプロジェクトにも参画している旨��
ベルギーのIMECからは、新顔�\術、DSAへの�Dり組みが発表されている。
◇IMEC installs 300mm-fab compatible DSA process line (2月13日��け Electronics Weekly (U.K.))
→世�c初の�Dり��け、DSAはblock copolymersを��いてspatial周�S数�\加を可�Δ砲垢�patterning�\術、光リソの現�Xの�U(ku┛)約を��える�}段の旨。
◇Imec develops 300mm fab-compatible DSA process line (2月13日��け EE Times India)
→Imecが、�Oらの300-mmクリーンルームfabに300-mm fab-compatible directed self-assembly(DSA)半導�����]プロセスライン�Dり入れに成功の旨。academic lab-scale DSAプロセスフローのfab-compatibleフローへのこのアップグレードは、University of Wisconsin, AZ Electronic MaterialおよびTokyo Electron Ltdとのコラボで実現の旨。
このような最先端リソ�\術の�t開の�k��(sh┫)、���]fabsの新陳代�aが進んでおり、ここ3�Qで以下の�X況となっているとのことである。
◇Report: Chip makers closed 49 fabs in three years (2月15日��け EE Times)
→IC Insights社(Scottsdale, Ariz.)からのデータ。半導��メーカーが、200-mm以下の口径ウェーハを処理する旧capacityライン削��(f┫)を主に、2009�Qから2011�Qの間に49 fabsを閉鎖している旨。
・ウェーハ口径別fab閉鎖
⇒http://www.eetimes.com/ContentEETimes/Images/120215_ic_insights_fab_close_size_371.png
・地域別ウェーハfab閉鎖
⇒http://www.eetimes.com/ContentEETimes/Images/120215_ic_insights_fab_close_region_403.png
≪�x場実��PickUp≫
ペイする�x場があってこその半導��最先端�\術であるが、IC����分野別に本�Qの�x場を予�Rした内容が以下に��(j┤)されている。草創期から半導��の基本パラメータとして今に至っているDRAMに�瓦靴�、�x場��模でNANDフラッシュが初めて今�Qは��?j┼n)vるのではないかという見��(sh┫)が、また�kつ加わっている。
【2012�QIC分野別�x場】
◇NAND flash market to expand surpassing DRAM in 2012, says IC Insights (2月13日��け DIGITIMES)
→IC Insights発。World Semiconductor Trade Statistics(WSTS)の定める主要ICの33���`のうち、2012�Qは27���`がプラスの�Pび、11���`がIC業�c����の予�R7%以��、6���`が二桁の�Pびと見る旨。NANDフラッシュは、solid-state drives(SSDs)��要拡�j(lu┛)で����(d┛ng)い�k��(sh┫)、DRAM ASPsは引き��き弱含み、2012�Qは初めてフラッシュ�x場����がDRAM�x場を��?j┼n)vる様相の旨。
・2012�Qに最も�PびるIC�x場分野の予�R
2012�Q�P長 | 2011�Q�P長 | |
| NAND flash | ||
15% | 15% | |
| Wireless telecom-special purpose logic/MPR | 15% | 35% |
| 32-bit MCU | 15% | 12% |
| MPU | 14% | 12% |
| Auto-special purpose logic/MPR | 11% | 11% |
| Auto-application specific analog | 11% | 45% |
| Display drivers | 9% | 7% |
| PLDs | 9% | 2% |
| 16-bit MCU | 8% | 21% |
| Wired telecom-special purpose logic/MPR | 8% | 2% |
| Wired telecom-application specific analog | 8% | 34% |
| ≪IC�x場����≫ | 7% | 0% |
[Source: IC Insights, compiled by Digitimes, February 2012]
中東、ロシアを含めた欧�Δ糧焼���、マイクロシステム���]fabsのデータベースが発表されている。50ヶ国にわたる国別のデータ内容に改めて見入っている。
【欧�Δ�fab、研�|機関】
◇European microelectronics fab database tracks major changes over past 5 years (2月13日��け ELECTROIQ)
→Yole Developpementがリリースした"European Microelectronic Fabs Database & Report 2012"は、欧�Δ�microelectronicsおよびmicrosystem���]fabs、試作ラインおよび主要R(sh┴)&D機関を?y┐n)��?j┫)に、50カ国を���魁�Europe and the Middle East area(EMEA)およびロシアに拡がる旨。
・≪地図表��(j┤)≫ EMEAウェーハライン …316ウェーハライン
⇒http://www.electroiq.com/content/dam/eiq/online-articles/2012/02/ICEuropemap.jpg
・≪��グラフ表��(j┤)≫ EMEAウェーハライン …316ウェーハライン
⇒http://www.electroiq.com/content/dam/eiq/online-articles/2012/02/ICEuropecam.jpg
サプライチェーンが本��を入れて�`を光らせるとかくもなるということか、半導��関係模�]��の�~発�P数という理解であるが、以下の通りである。
mission critical、�斂燭亡悗錣覬���に及んでいることは、�R�Tの�`を新たに求めている。
【模�]��】
◇Counterfeit parts putting military at risk (2月14日��け EE Times)
→IHS発。original equipment manufacturers(OEMs), contract manufacturers, component suppliers, buyersなどsupply chain関係�vの徹�f調�hを経て、模�]���P数が2009�Qの324�Pから2011�Qには1,363�Pと4倍の�\加、������およびヘルスケア機�_(d│)で�S的な数量�\となっている旨。
≪グローバル雑学?f┫)棔?89≫
学�攣�代に始まって会社����、プライベートと、��々と��いている�k�Jのお��き合い��時代�，譴疋錺ぅ錺ぅ�ヤガヤのコミュニケーション&雰囲気は、今後とも�L(f┘ng)かせないもの。というかなり�}�i�M�}の解��(ji─n)が��(d┛ng)い切り出しではあるが、そういった場所を提供する居��(ji┌n)屋について、
『居��(ji┌n)屋の世�c史』 (下田 淳／著：講�i社現代新書 2120)
…2011�Q 8月20日 発行
より、そもそも�bから今日に至る経緯、流れを辿ってみる。まずは、古代の誕�擺�、ギリシア、ローマなどであるが、10�Qくらい�iに旅行で訪れたポンペイの�C跡の居��(ji┌n)屋、��(ji┌n)のかめを思い出している。
≪はじめに≫
○居��(ji┌n)屋から歴史がみえる
・居��(ji┌n)屋の比較文化�bを試みる気に
・居��(ji┌n)屋の「�X」から覗くと、ヨーロッパ史の�擇慮従譴箸修���徴がみえてくる
・比較のため、��(r┫n)ヨーロッパ文��圏の居��(ji┌n)屋にも
�、�本書ではイスラム圏、中国、�f国、そして日本
○金�Bの見返りに��(ji┌n)類を提供する営業空間
・「居��(ji┌n)屋」の定�I
�、�金�Bと引き換えに��(ji┌n)を飲む「場」
�、�貨幣経済の成立が�i提条�P
○本書の��つのキーワード
「����への貨幣経済の浸透」…���c同士も、日常的に貨幣で売�A関係を�Tぶ段階
「居��(ji┌n)屋の�H機��性」 …共同��の集会所、�T��披露宴や�@進落としの場等
「�Rみ分け」 …「�H機��性」がそれぞれ居��(ji┌n)屋から分�`・独立
���k�B 古代オリエント・ギリシア・ローマ − 居��(ji┌n)屋の誕�擺�
・現�餡瀛召涼奮�だった紀元�i18世紀、バビロニアに居��(ji┌n)屋が�T在していたという証拠
・居��(ji┌n)屋の本格的普及は、紀元�i7世紀頃が��点
・古代人の感覚 …金�Bを�Dって飲食�颪鯆鷆，垢觜坩戮浪殊�
�、�居��(ji┌n)屋は�嵶�階級からつねに軽��
○メソポタミア文��で�擇泙譴織咫璽襪肇錺ぅ�
・メソポタミア文��のシュメール人の�l土��
�、�紀元�i4000�Q頃にビール醸�]
・ワイン醸�]は、紀元�i7000〜紀元�i5000�Q頃とする説
○「ハンムラビ法�Z」のなかの居��(ji┌n)屋
・メソポタミア文��期バビロニア�楾颪痢屮魯鵐爛薀嗚「Z」に、居��(ji┌n)屋についての��定
�、�?d┣)�払いは�j(lu┛)麦で�pけ�Dること
→謀議が行われたら通報すること
�、��∩里蝋圓辰討呂覆蕕覆い海�
○古代エジプトの国�c飲料・ビール
・紀元�i1300�Q頃、�榲圓傍鏈�(ji┌n)屋
�、�ビール、ワイン、なつめやしの�^�虜�(ji┌n)
�、�すでにこの時期、�^�龍\術
○貨幣経済の始動
・居��(ji┌n)屋の発�tは貨幣経済の発�tと並行
・貨幣経済が本格化�、�単に��(ji┌n)を飲むだけでなくエンターテインメントの場に
○客人の接待は�@誉なこと
・ゲルマン人にとって客人を接待することは�@誉なこと
・「ホスピタリテ��」…ラテン語の「ホスピティウム」から
�、�元来、無償で客を接待することや、そのための�U
→ホスピス、ホスピタル、ホテル
○ユダヤ・キリスト教と無償接待
・クセノドキーエンという施��院
�、�ユダヤ教やキリスト教の慈���@神と、古代人���~の無償接待の�@神の合��した施設
○パンとワインはわが身��と�p
・ユダヤ人の��(ji┌n)はワイン →�@書をめくればワインの記述はすぐ�`に�里泙襪曚�
・新約�@書、キリストと弟子たちの「最後の晩�o」
→パンとワインを�Dらせ、これはわが身��と�pである
・ユダヤ教、キリスト教の教え�O��、飲��(ji┌n)が�Kいものという�b理は出てこない
�、�禁��(ji┌n)を建�iとするイスラム教世�cとの�竿�
�、�キリスト教世�cで居��(ji┌n)屋が発�tすることに�k役
○呑兵ﾅの都�x・ビザンティウム
・紀元�i6世紀ごろ、ギリシアの植�c都�x、ビザンティウム(現イスタンブール)は、"呑兵ﾅの都�x"の�}び�@
�、�アテネの港に�飩@運搬、アテネも居��(ji┌n)屋の巣�l(f─)に
○ワインは薄めて飲むのがマナー
・ギリシア、ワインを水やお湯で薄めて飲むのが、��に�嵶�階級の「マナー」
→原��(ji┌n)で飲むのは����(sh┫)の蛮��のやること
�、�ほどほどの��(ji┌n)が�k番、��酊は人の理性を麻痺
○�o��の��源
・�y、鷲などの動�顱▲�リーヴや�Z��、�B(y┌ng)などさまざまなものを���o��に
�、��o��の��源はローマ
○居��(ji┌n)屋に通う皇帝
・�嵶�階級も居��(ji┌n)屋に行っていた証拠
・����(w┫)79�Qに���僂諒���で�m没したポンペイ
�、�人口1万、120軒の居��(ji┌n)屋。�D��(sh┫)4時か5時開��、�Qりの際は深�榔超�。
○����に居��(ji┌n)屋はあったか
・古代の�o文�� →貨幣経済の発�tと並行して居��(ji┌n)屋が成立
�、�古代において����居��(ji┌n)屋はなかった、といってよい
・居��(ji┌n)屋はつねに�U屋
�、��嵶�階級にとっては軽��の����(j┫)、客はもっぱら下層�c
