シリコンカーバイドの登場
シリコンカーバイドはバンドギャップがシリコンと比べてjきくT晶の融点も高いため、高aでも動作し使時のa度J囲を広くとれる。かつ逆耐圧が高くn働電圧電流をjきくとれるW点もある。その屐√X伝導率はシリコンの3倍もあって、これはパワーデバイスにとって夢の半導材料といえよう。そのシリコンカーバイドがx場に登場して来た。
日本はその先頭を走っていると言ってもよいだろう。シリコンデバイスの動作a度が175度と比べるシリコンカーバイドは500度とj幅に改する。冷却は不要もしくは~素化されるので、エコロジー屬離瓮螢奪箸盻jきい。
シリコンカーバイドで作るデバイスの例にはショットキーダイオードとMOSFETがありIGBTには向かない。シリコンカーバイドで作るIGBTがシリコンに劣ると早い段階で言したのは氾跳二だ。「カーエレクトロニクスの進化と未来」という記でSiC材料はIGBTに向かないと述べたが、 これはにその通りだ。IGBTがオンXになるとそのPN接合が順バイアスされそのT下電圧はバンドギャップに比例するのでシリコンのそれの3倍にもなるシリコンカーバイドは相当に不Wになってしまうからだ。
新しい半導の出現を歴史的に見るとゲルマニウムがc效トランジスタとして実化され、噞などにシリコンデバイスがいた。そしてシリコンはLSI時代を迎え広くWされるようになった。そしてガリウムヒ素が化合馮焼として研|された。ガリウムヒ素は周期表で四のゲルマニウムのuの価のガリウムと五価のヒ素の化合颪3と5の平均が4になるので組成が11なら四として半導材料である。ヘテロ接合バイポーラトランジスタや、HEMTtち高電子‘暗戰肇薀鵐献好燭箸靴瞳搬單Bなどに応されている。GaPも同様で、これらの化合馮焼はLEDやレーザーなどの発光デバイスにもなった。シリコンカーバイドは周期表において初段`の四である炭素と二段`の四であるシリコンの化合颪任△辰討笋呂衄焼であると理解できる。
菱電機は2008Q2月にSiCパワーモジュールを開発してインバータのパワー密度を4倍にしたと新聞発表をした。内容はインバータv路にSiC-MOSFETとSiC-SBD(ショットキーバリアダイオード)を組み合せた。SiC-SBDをD流v路に使い出100Aでのスイッチング動作を可Δ砲靴燭發里澄ショットキーバリアダイオードはH数キャリヤだけで動作しリカバリータイムが]いという性を~している。このCにおいても発表されたインバータはIGBTをえるものだ。インバータのパワー密度がSi IGBTと比べ4倍をえたのはまさにシリコンカーバイドのおかげだ。菱電機は寄撻ぅ鵐瀬タンスがる効果もあってこのインバータはスイッチ時間がに]縮しサージ電圧もる、としている。
k機▲蹇璽爐離曄璽爛據璽犬砲茲襪蛤cQの10月に、B都j学j学院のv本教bと共同で低B^SiCトレンチMOSFETのj容量化を達成し、シングルチップで300Aの~動を実現した。jC積トレンチゲートe型MOSFETの構]を開発したものだ。
今Qの春には新日鉄が4Hヘキサゴナル構]の単T晶を開発したと発表している。たくさんのT晶構]を~するシリコンカーバイドだが、この構]は3.23eVのバンドギャップで融点は1700度にも及ぶ。販売を開始したウェーハサイズは2、3そして4インチだ。このT果、盜颪離リー社が独していたシリコンカーバイドのウェーハビジネスに風穴をあけることができた。クリー社に瓦垢謐争軸が出来たためのコスト低下にHjな貢献を期待したい。
電気O動Zや鉄Oなどに使われるパワーエレクトロニクスでは、もちろん電変換時の電失が最jの問であるが、さらなるj電流を実現するためにはオンB^を下げる要がある。高aかつ高信頼なパワーモジュールを実現するにはもうk段のi進が要でそのためにはシリコンカーバイドのT晶L陥(k例はマイクロパイプ)をにらす要がありそうだ。しかも、昨今の世c情勢から言うと、O動Zから内\機関が消えることを考える要が出て来た。このため、満をeして登場して来たシリコンカーバイドにjきな期待がかかるのだ。
盜颪寮萋海發△辰得菴聞颪魯好沺璽肇哀螢奪匹謀蟀@することを本格化させる。その際、陵杆や風などのO条Pが発電環境をめるので出は不W定になるが、スマート化で解できるだろう。そのk\術要素は電池すなわち蓄電\術であろう。そして、電池は直流なので交流が要な場Cではどうしてもインバータが要になる。その時もっとも躍するのはシリコンカーバイドを使ったMOSFETとショットキーダイオードによる新しいインバータであろうと考える。
庁が運する電子図書館を検索すると国内発の出願がHくなって来た。垉遑眼Q間でシリコンカーバイドに関するは320Pをえる出願がある。出願人は我国k流の電機U、O動ZUそして新日鉄などの会社群であってに頼もしい限りである。