�eを現わしつつある�盜颪�DX：��3��APCとIndustry 4.0 (6) リーダーの見��
APCカンファレンス����を通じて、プロセスコントロールのリーダー達の見�気鮠匆陲靴討い襦�スマートマニファクチャリングへのロードマップを�`指す。さらには専門家を育てることの�_要さなどが議�bされている。���]業の核は「人」だからである。(セミコンポータル��集室) [→��きを読む]
寄�M（プロセス）
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�eを現わしつつある�盜颪�DX：��3��APCとIndustry 4.0 (5) TELのVM
APCカンファレンスで�i川��の印��に残ったTEL AmericaのBen Rathsack�F士の講演を紹介する。半導�����]におけるVM（バーチャルメトロロジー）とその後のAIを使った予��保��などの最新�\術でウェーハ歩�里泙蠅��屬押�微細化が進んでもバラツキを��らせることを実証してきたという。(セミコンポータル��集室) [→��きを読む]
�eを現わしつつある�盜颪�DX：��3��APCとIndustry 4.0 (4) NXPのZD
APCカンファレンスで�i川��の印��に残ったNXPのSteven Frezon��の講演の��きと講演�vへのインタビューを紹介する。かつての日本企業のゼロディフェクト（ZD）運動とは違い、先端ITの解析ツールを�W��した高����の�{求が新しい。(セミコンポータル��集室) [→��きを読む]
�eを現わしつつある�盜颪�DX：��3��APCとIndustry 4.0 (3) APC出席
�盜颯謄�サス�Ε汽鵐▲鵐肇縫��xでAPCカンファレンスが行われた。ここではその会議の様子を伝えると共に、その中から�i川��の印��に残ったNXPのSteven Frezon��の講演と講演�vへのインタビューを紹介する。印��に残った言��はかつて日本企業が最�jの�咾澆箸靴討い拭屮璽蹈妊�フェクト」であった。(セミコンポータル��集室) [→��きを読む]
�eを現わしつつある�盜颪�DX：��3��APCとIndustry 4.0 (2) 国際��争
�盜餤腸颪離轡鵐�タンクである�盜餤腸馗��h局のレポート「U.S. Semiconductor Manufacturing」は、いよいよ外国半導��企業と�Q国での�X況について触れられている。�盜駭��Bが、�Q国とその半導��企業をどう見ているか、興味深い。（セミコンポータル��集室） [→��きを読む]
�eを現わしつつある�盜颪�DX：��3��APCとIndustry 4.0 (1) �殀焼���の変��
AEC/APC Symposium Japanの�i川耕司��が�盜颪砲�けるデジタルトランスフォーメーション（DX）��情についてレポートしてきた。��1�陲任麓＼ぢ綏搬喞命�5G、��2�陲任蓮�IoM（Internet of Manufacturing）とIndustry 4.0について議�bした。��3�陲任蓮��盜駭∨����Bが見る半導���噞と、最新APC/AECカンファレンスについてレポートする。この��3�陲虜能蕕��盜餤腸颪離譽檗璽箸鮠匆陲靴討い襦�(セミコンポータル��集室) [→��きを読む]
最初の商��SiC JFETを使ったEasy1Bパワーモジュール−後��
ドイツのインフィニオン社は、SiCトランジスタの�k�|であるJFETを2012�Qはじめには商��化する予定だ。MOSFETとは違い、JFETはSiCのバルクを電流が流れるデバイスであるため表�C�L陥の影�xを�pけない。しかしノーマリオン動作になる。このためpチャンネルMOSFETをソースにつなぐカスコードライト接��により実��的にノーマリオフ動作ができる。後��は電気��性や99%を��すインバータについて述べている。(セミコンポータル) [→��きを読む]
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