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会議報告

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ISSCC 2016、の共通キーワードはIoT、日本が高採I率

ISSCC 2016、の共通キーワードはIoT、日本が高採I率

ISSCC2016は、IoTk色といえそうだ。噞cからの講演が\え(図1)、しかも日本からの発表が盜颪房,因P数となっている。参加vも60%が噞cから。ISSCCは常に時代の新しいトレンドを採り込み、基調講演はそのトレンドを反映している。アナログ、パワー、ロジック、メモリ、RF、通信?d─ng)v路、プロセッサなどテクノロジーの進化を見ることができる。 [→きを読む]

セキュリティをテーマとするA-SSCC 2015

セキュリティをテーマとするA-SSCC 2015

11vアジアwv路会議A-SSCC2015が今Qは中国の門xで開される。このほど、その記v会見を組E委^会が開した。アジアを開地とするこの半導v路会議は、ファウンドリもファブレスもアジアが主役の座を担い始めていることから、参加vが浸\している(図1)。来Qは富處xで開される予定になっている。 [→きを読む]

Industry 4.0で先行する半導攵システムの会議AEC/APC Sympo 2015

Industry 4.0で先行する半導攵システムの会議AEC/APC Sympo 2015

半導]・プロセスのO動・最適化を通じて、よりインテリジェントで高効率な攵システムの構築を議bするAEC(Advanced Equipment Control)/APC(Advanced Process Control)Symposium Asia 2015が11月11日、東Bh代田区の学術総合センターで開される。半導]分野は、]条Pを予めするフィードフォワード的な考えをeち、Industry 4.0を先行してきた。 [→きを読む]

SPIフォーラム「3次元実△悗量O」がした3D-ICの現実解

SPIフォーラム「3次元実△悗量O」がした3D-ICの現実解

セミコンポータル主のSPIフォーラム「3次元実△悗量O」が3月25日、開された(図1)。高集積化の}段をこれまでの微細化だけではなく、eに積み屬欧(sh┫)式も加わると見て、企画した。システムから見た3D、ブームになりそうなFO-WLP、実際にメモリシステムを構成するHMC、など現実解は実に進んでいる。 [→きを読む]

LEAPの成果報告、どうするか、問われる参加企業

LEAPの成果報告、どうするか、問われる参加企業

低電圧デバイス\術研|組合(LEAP)のプロジェクト「低炭素社会を実現する低電圧デバイスプロジェクト」は平成22Q度から本Q度までの5Q間に渡って研|されてきた。LEAPが主する「4v 低炭素社会を実現する低電圧デバイスプロジェクト成果報告会」がこのほど開かれ、その開発されたデバイスが披露された。 [→きを読む]

「ダブルパターニングが曲v」を露呈したFinFET\術のSPIフォーラム

「ダブルパターニングが曲v」を露呈したFinFET\術のSPIフォーラム

セミコンポータル主のSPIフォーラム「3次元プロセスの壁とソリューション」が1月30日、東B御茶ノ水で開された。ここでは、16/14nm時代から本格的に導入されるFinFETや、NANDフラッシュのようなe型メモリといったプロセスの3次元化を採り屬欧拭2014Q12月のIEDMでもFinFETがj(lu┛)きなトピックスをめたようだ。 [→きを読む]

モバイルのおかげで到来したユビキタス時代〜ASSCCに見るトレンド

モバイルのおかげで到来したユビキタス時代〜ASSCCに見るトレンド

アジアの半導v路会議であるAsian Solid-State Circuits Conference (A-SSCC) 2014が2014Q11月10〜12日、湾の高dxで開される。ISSCCのアジア版といった会議であるが、今Qのメインテーマは「集積v路が可Δ箸垢襯罐咼タスコンピューティングとビッグデータ」。もはやトピックスは世c共通となった。 [→きを読む]

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