Q（セミコンポータル��集長）：ようやく電子ビーム露光がLSI���]に使われようとしています。富士通からスピンオフしてまもなく1周�Qを迎えます。この1�Qを振り返ってどのようにやってきましたか？
A（代表�D締役社長　土川春穂��(hu━)）：イー･シャトルには�j(lu┛)きく分けて二つの業��があります。�kつはシャトルビジネス、もう�kつが電子ビーム露光ビジネス、です。1��のウェーハに複数の顧客の�v路を載せて�k度に処理するシャトルサービスは、もともと富士通社内で行っていました。これを�k般に開放するわけです。EB露光に関しては、試作��や、数量が少ないLSIの�攵�にはEB直�Wの��(sh┫)が光露光よりも�Wく済みます。
この1�Q間に行ったことは、まずシャトルビジネスの���U(ku┛)を作ってきました。ユーザーを開��するため、最�j(lu┛)のユーザーである社内�靆膰�けにドキュメントを�D�△靴泙靴拭�これまで社内の�R文なら、共通の言��でわかることが�Hかったため、ドキュメントがなくてもLSIを?y┐n)��]できました。しかし、社外ユーザー向けにはこうは行きません。きちんとしたドキュメントで�}順や考え��(sh┫)を述べていなければ、誤解を�擇献咼献優��屬妊肇薀屮襪��擇犬覯���性があります。この1�Q間で、社外のユーザー開��に100社ほど�vりました。加えて、EB����の導入が��れていたのですが、今�Qの2月に入れました。

Q：アジアの��合メーカーとの差別化はどうしますか。
A：TSMCと比べてEB露光で試作すること�O��が差別化です。彼らはEB直�Wの経�xがありません。EB直�Wはマスクを使わない工��分は�Wくできますので、コストメリットはあります。ですので、TSMCよりは�Wく作れると思っています。とはいえ、TSMCはファウンドリの教師です。ファブのキャパシティが違いますね。

Q：シャトルサービスは�j(lu┛)学が�W(w┌ng)��しますが、�j(lu┛)学はいろいろな�R文をつけませんか。アカデミックディスカウントにしてくれとか、カスタム的にもう1層積んでくれとか。
A：シャトルビジネスとしては定食屋になりたい。配線層数としては2~3�|類しかメニューを出さないでその�J(r┬n)囲内で何とかやってもらいたいです。しかし、きちんとサポートしなくてはなりません。そこをどう解��するかが問��です。しかし、試作なのだからわがままを聞いてくれとも言われます。こちらとしてはできるだけ良いメニューを提供することが成功のカギとなります。乗り合い��(sh┫)式ですから、オプションには�官�できないことをわかってもらおうとしています。

Q：EB露光のメリットは何でしょうか？
A：これまで試作は実�x��などのミニファブで行い、量�巤に�攵�ラインへ�eっていきましたが、65nmプロセスになるとマスク1セットが2億��もします。試作と量��を別々のマスクで設��していたのではもはや経済的にやっていけません。試作はせめてEBで、量��になったら光露光でやればいいのです。EB露光のデータを光露光へと変換できます。
また、試作でもリソグラフィだけはEBで露光するとしても他のプロセスは富士通���_工場の300mm量��ラインをそのまま使います。すでに65nmプロセスの�k�陲�EB露光を使っています。ですから量��への�々圓�スムースにできます。試作と量��の違いはリソだけなのです。実際にはEB露光機のスループットはそれほど高くはありません。しかし、ポリシリコンも含めた下層の配線層をEBでパターニングし、�崛悗稜枩�層を光露光でパターニングするという�}を使えば、プロセス����でみればさほど��れることはありません。

Q：�k筆書きのEB露光だと開発は早くできますか。
A：プロセス����のTAT（ターンアラウンド時間）で開発の早さは��まります。EB露光が��いからといってプロセス����の時間にはそれほど効きません。マスクを作らない分だけまた早くすむというメリットもあります。EB直�Wを�k�陲世瓜箸辰討�り�T局マスクは作りますので、今のところそれほど変わりません。ただし、EBは作り直しが�~単なので、その分早くできます。

Q：光露光と電子ビーム露光との間でのコンパチビリティはあるのでしょうか。
A：65nm��度になりますと、EBの��(sh┫)がマスク通りに��確にパターンを�Wけますが、光露光だとOPC（光�Z接効果����）で����しなくてはなりませんし、�C倒な変換作業が��要になってきます。そこで、EBのパターンを光のパターンのようにわざと崩して光によるパターンの出来�屬�りに合わせます。これは量��を�T識して、図�Cを����しています。

Q：どのような����をEB露光で設��するつもりですか？
A：まずカスタム��でしょう。FPGAやPLDで試作するユーザーは�Hいのですが、�`いっぱい�]度や性�Δ��屬欧燭い塙佑┐討い襯罅璽供爾砲箸辰討��髀Bりないでしょう。そのような場合には専��のチップを開発することになります。この場合の����はシャトルというよりは1社が1��のウェーハ���陲鮖箸Ρ���です。
シャトルとEB露光で中小の企業や�j(lu┛)学がカスタムLSIを開発するためのバリヤーを下げたいと願っています。秋��原の学�擇��O分の専��LSIを作ってみたい、という要望に応えることが理�[です。試作レベルで高�]のチップを専��のハードで作りたいという要望にも応えたいと思っています。
�j(lu┛)�}のシステムメーカーがASICを開発する場合、��に開発段階でEBを?q┗)���してもらうことを考えています。ASICの仕様が最終��定する�iにEBを�W(w┌ng)��してチップを試作し、仕様が��まったら、光露光を使って量��すればよいでしょう。今のところはまだ����に至ったものはありませんが、�Q度内には何とかEBを使った����を�`指そうと思っています。

Q：ここへきてやっと����もビジネスも動き出しました。その後の見通しはいかがですか。
A：出�@�vであるアドバンテストとの�Bし合いによって2�Q間はトライアル的にやってみようとのことで、その後で��(j┤ng)来の絵が�Wけるかどうかで��業の��(sh┫)向が��まります。最初の1�Qは����期間です。この後、�O分たちのビジネスモデルを作り直していくつもりです。それは顧客がどれだけいるか、EBの性�Δ�どれだけ�屬�ったから、見通しはあるか、ということを考えて��業の絵を�Wいていきます。

Q：次の1�Qへの見通しを聞かせてください。
A：�@本����金を合わせてあと1�Qで25億��です。アドバンテストから����1��を�@本金に組み込み、もう1��をリースで借りるという形を�Dります。アドバンテストはもはや数少ないEB直�W����メーカーになりました。����した企業が�Hかったので。もっとEBを世の中にはやらせたいのですが。
しかし、光リソグラフィもX線のEUVも成功するかどうかわからないので、EBに�瓦靴洞板cがもう少し理解を��してくれれば、システムASICの試作ツールとして��躍できるのではないかと期待しています。