実性最優先のフレキシブルエレクトロニクスを擇濬个Holst Centre
実的ではない~機トランジスタでLSIを作るのではなく、Si CMOSLSIを使ったフレキシブルエレクトロニクスが実的になってきた。研|開発センターでさえ、実化を念頭にく。ベルギーのIMECとオランダの研|機関TNOが共同で設立した研|所Holst Centre (図1)がフレキシブルデバイスの実化を進めている。

図1 ベルギーIMECとオランダのTNOが共同で設立したHolst Centre 広jなハイテクセンターの中にある 出Z:Holst Centre
~機トランジスタを使ったフレキシブルエレクトロニクスは、いつまでたっても実化にならない。まるで「研|のための研|」的な様相を呈している。~機トランジスタの‘暗戮蝋發てもせいぜい10cm2/Vsしかない。それでも研|b文には、こんなに屬ったという言い気鬚靴討いb文がHい。いつまでたってもSi MOSトランジスタの1/10未満である。10Q、20Qも研|しているのにこれ以屬寮Δ屬らない。これでは実化は遠い。フレキシブルエレクトロニクスあるいはプリンテッドエレクトロニクスは、もはや実化できない\術、というイメージが定した。
ところが、L外には実化することを`Yとするフレキシブルエレクトロニクスの研|vが出てきている。配線やタッチセンサなどのパッシブな霾にフレキシブル基と導電性インクの印刷\術をいて配線や電極を形成する。そして、高性Δ要なζ哀妊丱ぅ垢砲x販のSi LSIをフレキシブルプリント基に実△靴銅唾化を図ろうというものだ。
研|vといえども、社会を変えたいと考えている人は少なくともL外ではHい。信ス萢のLSIは、JTのシリコンCMOSで科高い性Δuられている。しかもシリコンチップはウェーハの最終段階で削ることが常識になっている。常に薄いのである。だから、Si CMOS LSIをフレキシブル基に張りけて信ス萢に使うフレキシブルエレクトロニクスを実化しようと考えるのはごくOの流れになっている。
プリンテッドエレクトロニクスを早く実化したいと考える企業のkつ、英国ケンブリッジにあるNovalia社は、てJTのシリコン\術をベースにしたフレキシブルエレクトロニクスで音楽の出るポスターやボールLにWいた音の出るピアノやドラムなどの商をすでにx場に出している(参考@料1)。フランスのj}広告代理JC Decaux向けにビジネスをt開している。
こういった実的なフレキシブルエレクトロニクスを普及させる研|開発動をHolst Centre研|所が担う。研|所とはいってもいつモノになるかわからないといった動ではない。ここでのテーマは、低消J電\術とフレキシブルエレクトロニクスである。この応として、ヘルスケア端や、OLEDディスプレイ、ソーラー電源、LED照などを`指している。
オランダのHolst Centreは、ベルギーのIMECとオランダの研|開発機関TNO(応科学研|機構)の共同出@で2006Qに設立された。そのk陲蓮2010Qにセミコンポータルでも紹介した(参考@料2)。1平kmの敷地のハイテクキャンパスに建颪あり、現在スタッフは210@、28ヵ国から研|vが働いている。IMECと同様、j学院j学としての役割も△─35〜40@の学擇發い襦パートナー企業や研|機関は現在55社に達した。「研|開発のアウトソースとして使ってほしい」と、Holst Centre Managing DirectorのTon van Mol(図2)は語る。
図2 光らせたOLEDをeつHolst Centre Managing DirectorのTon van Mol
jC積のディスプレイやセンサなどの応だと、単T晶Si以外のTFT~機/無機トランジスタを作らざるをuないが、性Δ篦秕嫡J電が求められる信ス萢では、k般のSi LSIチップを張りける。フレキシブルエレクトロニクスはもはや実化しなければT味がない。このための提案として、ヘルスケア関係の医機_、ソーラーパネルを身にけるファッション性の衣Kなどの応と、ウェアラブルデバイスが主なとなる。応例の試作もHい(図3)。例えば衣Kの中に~機ELディスプレイをmめ込んだり、新攣毛布にE色OLEDをmめ込んだりするような試作例がある。
図3 Holst Centreにおけるフレキシブルエレクトロニクスの試作例 出Z:Holst Centre
こういった試作例だけだと来のフレキシブルエレクトロニクス研|と変わらない。図3の下の例にあるような薄くてフレキシブルなウェアラブル端こそが、実的なデバイスになる。信頼性的にも60℃/90%RHの高a高湿試xにおいても問をクリアできるようになった。Holst Centreには、耐湿性を屬欧襪燭瓩離丱螢∩悗箸靴董CVD SiN膜-ポリマー-プラズマCVD SiN膜の3層構]をロール-ツー-ロール擬阿之狙できる量の]をeっており、基フィルムの長さはなんと、1.2kmにもなる。プラズマプロセスといってもALD(Atomic layer Deposition)法を使っているとしている。導電性インクを印刷で形成する場合でも配線幅28µmと常に細く形成しているため、OLED照はほぼ透に見える。
参考@料
1. JT\術で、プリンテッドエレクトロニクスを実現、新しいエクスペリエンスをつくる (2015/04/30)
2. グローバルなオープンイノベーションで5Q`を迎えたホルストセンター研|所 (2010/06/09)