Semiconductor Portal

» セミコンポータルによる分析 » 噞分析

レゾナックのエコシステムが收AI向け先端ICパッケージを可Δ砲垢詬y

レゾナックはO社が開発を進めている先端パッケージの工に使う材料をh価するためのエコシステムを構築している。このコンソーシアムに後工リソグラフィのオーク作所が参加した。これによって、先端パッケージ工に要なプロセスは完成する。の工を理解することによって、来要な材料を瑤襪海箸できるようになる。

レゾナックのエコシステムにオーク作所が参加

図1 レゾナックのエコシステムにオーク作所が参加、先端パッケージ工が完成(左3@がオーク、2@がレゾナックのQチーム


レゾナックは、素材メーカーの昭和電工とコンパウンドメーカーの日立化成工業が合してできた会社(参考@料1)。素材メーカーだけでは、半導パッケージのある工に使われるとしてもそのi後の工でどのような性が要求されるのかが見えない。このため、素材プラスコンパウンドメーカーが合して、次の工までは見えるようにした。しかし、それでもパッケージの工への要求が見えないため、材料・化学メーカーを中心に工のエコシステムを構築した。これがJointプログラムである。

Joint 1は、レゾナックの投@だけでい、主にFO-WLP(Fan-out Wafer Level Packaging)やPLP(Panel Level Packaging)を開発していたが、Joint 2では2.5Dや3D、チップレットをWした先端パッケージを開発できるようなUになっている。Joint 2ではNEDOの@金もしている。ただ、先端パッケージに要な2µm、3µm配線を加工できるリソグラフィメーカーが参加していなかった。

今v参加したオーク作所は、プリントv路基向けのリソグラフィを開発してきた。その光源となる噞ランプやエキシマランプなどを扱うランプ業陲發△襦ここではステッパや直接W画も]している。

2.5Dや3Dパッケージとなると、シリコンや~機材料のインターポーザが求められる。その場合のサブストレート基やインターポーザには2µm、3µm線幅のW定したリソグラフィが要になる。ICパッケージに使うプリントv路基はもはや、かつてのような100µmレベルでスクリーン印刷をWしたパターニングではない。半導i工で使われてきたフォトリソグラフィ工でのパターニングが要になってくる。

先端パッケージ\術で最もjきな変化は、基のサブストレートのjきさに関係なく]できることだ。これまでのステッパでは、レチクルサイズと歩里泙蠅留惇xで、サイズがまり、それ以崕jきくできなかった。しかし、今は例えばニューラルネットワークモデルをWするAIチップで見られるように、チップのjきさにはU限がなくなってきた。

しかもAIは、これまでの専AIから@AIへと々圓靴討り、@AIにZい收AIへの要求が到している。收AIはj模言語モデルという巨jなソフトウエアモデルをWしており、それを]時間で処理するために、できるだけコンピューティングξを屬欧襪海箸求められている。例えば、来のコンピューティングξなら学{演Qに300日もかかる巨jなソフトウエアモデルはあきらめてきたソフトウエアエンジニアがHい。しかし、@AIを`指すエンジニアはもっとコンピューティングξが欲しい。

今QになってAMDが発表したMI300というは、2.5D/3DをWした先端パッケージ\術で作されている。そのjきさは7cm角ほどもある。しかし現在のリソグラフィでは、そのパターン配線を加工することがMしかった。

オークが提供する直接W画のリソグラフィを使えば、AMDのMI300よりももっとjきなICでさえも]できる。しかもAIで使うニューラルネットワークモデルでは、歩里泙蠅箸い念がない。例えばウェーハスケール集積v路を]し、その21.5cm角(300mmウェーハから1個Dり)のチップを設しているファブレスのCerebras社は、そのチップを歩里泙100%だ、と表現する。ニューラルネットワークではそのネットワーク内の配線が数本切れようがT果にそうj差はない。しかもU御v路霾の配線が切れたり不良だったりする場合に△┐、N長的に配線のリペアv路を集積している。

オークの提供する直Wシステムは、配線パターンのCADデータからフォトマスクを経ずに直接露光する。マスクレスである。は、光源をw定しており、プロジェクタDMD(Digital Mirror Device)デバイスに使われているような複数のデジタルマイクロミラーをWすることで光の向きを変える。エリアごとに複数のマイクロミラーの向きを変えることでW画される光の露光C積と場所を変えることができる。シリコンインターポーザの配線パターンを形成する。

收AIは高いコンピューティングξを要求するため、AIチップはますますj型化する。2.5D/3D-ICパッケージは收AIに向いた\術でもある。收AIチップに向け、オーク作所の先端パッケージの露光はj化けする可性はある。今後、C積のU約のないパッケージが可Δ砲覆蝓收AIチップの開発が加]しそうである。

参考@料
1. 「レゾナックがOらコンソーシアムを組E化する理yとは」、セミコンポータル(2023/05/25)

(2023/07/06)
ごT見・ご感[
麼嫋岌幃学庁医 4399唹篇窒継鉱心互賠岷殴| 冉巖va天胆va| 弼際際消消av励埖忝栽| 忽恢娼瞳消消消消匯曝屈曝眉曝 | 忽恢冉巖匯曝屈曝壓濆杰| www篇撞壓濆杰| 爺爺孤爺爺握爺爺荷| 消消消涙鷹娼瞳冉巖晩昆梓彫| 谷頭a雫谷頭窒継殴慧100| 忽恢寄倔篇撞壓瀲伺屈曝| 鯣嫂篇撞app窒継和墮| www忽恢涙耗坪符com| 涙孳飢円郭寵円郭通円恂 | 冉巖撹a▲繁頭壓濆| 娼瞳窒継繁撹篇撞APP| 忽恢冉巖篇撞利嫋| 91娼瞳忽恢冉巖訪転壓灑惟 | www.99弼| 撹繁娼瞳匯曝屈曝爾秤| 消消励埖娼瞳嶄猟忖鳥| 挑撹定ASS敵娼PICS| 冉巖寄頭窒継鉱心| 谷頭寄畠壓濆杰| 卅繁弼壓濆杰| 娼瞳牽旋篇撞擬砂| 忽恢匯曝屈曝眉曝音触av| 醍狭恢娼忽瞳匯屈眉恢曝曝 | 消消消消消消消消消消消消消 | 冉巖卅繁消消寄穗濬彊| 麟麟議罷周和墮| 恂a議篇撞窒継| 娼瞳忽恢匯屈眉恢瞳勺鯉| 膨拶撹繁唹垪利峽| 築蕚壓濆杰潅盞儻瀁| 忽恢怜匚娼瞳匯曝屈曝眉曝| 際際弼卅繁冉巖忝栽利嫋弼| 忽恢娼瞳消消消消消消消消唹垪 | 蒙雫谷頭a雫谷頭壓濂シwww| 窒継篇撞廨曝匯忽恢義父| 胆忽塀鋤蕊壓濂シ| 忽恢匯曝垰昆屈曝天胆眉曝|