中国の8インチライン\加へ
世cの半導噞の進化は、kつはプロセスの微細化であり、もうkつはウェハサイズの\jである。現在、世cは12 インチ、65nm 時代に突入している中で、中国のIC ]はまだ初期段階に里泙辰討い。
2006 Qは半導のターニングポイントであった。それは、DRAM の8 インチウェハ攵のコストパフォーマンスがKくなりラインの閉鎖へと向かったからである。2007 QにはDRAM の8 インチ攵ラインは、他のIC の攵に転されるだろう。華NEC は中国で初めて8 インチウェハ攵妌場を立ち屬、それ以来今日まで中国のIC 噞をリードしてきた。現在、中国にはSMIC の12 インチウェハ攵妌場と中国土の8 インチウェハ攵妌場を合わせて、その攵は月間30 万以屬攵模に達している。

確かに中国は12 インチの90nm プロセス\術を~しているが、世cトップのTSMCに比べるとはるかにれている。ハイエンドのファウンドリー業はYメモリーが中心である。ロジックIC のファウンドリー業では、90nm プロセスの要量が少なく、まだ立ち屬っていないため、ファブレスメーカーからの先端プロセスのj口pRが無い。そのため、新しい12 インチウェハ工場の攵ξ拡jへの牽引vがなく12 インチウェハの攵は停]している。
12 インチ攵ラインについては、SMIC のBFab4以外に、帷LFab8 に]を導入中であり、漢にある新工場もi倒しして完成する見込みである。また、無錫Hynix とST マイクロが共同出@したメモリー工場は、2007 Qに8 インチが5 万、12 インチが6 万の月間攵ξであり、中国における最j模の最先端IC 工場になる。
これらの12 インチウェハの新工場は、Oら攵するIC やファブレスからの要をeっているので、新工場n動に問はない。
しかし、昨Q9月に中国B関係の中国華集団傘下で帷Lに建設された“華国際半導~限o司”の半導工場が遽、半導設△稜柴を中Vしたのは、12 インチウェハのラインをn動させるに科なpRが見込めなかったことが原因のようである。中国オリジナルの最新工場建設と運営は\術Cと要CでMしい。
中国のIC ]噞では、まだ6 インチと8 インチが主流でW益が確保できている。このため、現在でも引きき8 インチの攵ラインの工場を\設しているのが現Xである。
セミコンダクタポータルのコンテンツパートナー、アレグロ インフォメーション・インク(以下アレグロ)による、中国のエレクトロニクス・半導・]晶分野のマーケット情報です。アレグロは、同社独Oの調h及び、中国国家統局、CCID、中国電子報、経済参考報、国際金融報などからuたフレッシュな情報をベースに、に中国のIT、エレクトロニクス、半導・]晶関連の情報収集・提供、分析、調hを行っています。今v、提供したのは、同社の月刊レポート「中国レポート:Electronics and Semiconductor China」の2007Q4月、らのks粋です。