��洋はこれまで独�O開発の�T晶シリコンとアモルファスシリコンのハイブリッド構�]を�eつHIT�陵枦澱咾鵁t開してきた。発電所向けなど�j(lu┛)��模な�陵杆�発電に適した薄膜�陵枦澱咾離僉璽肇福爾箸靴討録憩�本石��(t┤ng)と組み、主に�c�效���に適するHITについては今�Q度内に��洋と合��するパナソニックと協��することになる。

今�vの合弁会社は2010�Q度内に200億��を投じて発電効率10%の80MW��模のマザープラントを��洋の薄膜開発センターがある岐阜県内に建設、さらに2015�Q度までにマザープラントをベースに1GW��模、2020�Q度には2GWの�攵喤点を建設する予定という。1GW以�Tの量��プラントについては「国内外、どこでもよい。�k極集中するか、��(ji┐n)要のある例えば中�Z東など、��(ji┐n)要のあるところに作るか、いつ�t開すべきか、�x場動向を見て新会社で詰めてゆく」と��洋の佐野�@�k�r社長は語る。

��洋のHIT�陵枦澱咾麓泰x室レベルで22.3%、量����で19.7%の変換効率を達成しているという。��洋の�陵枦澱啅\術開発は1975�Qのアモルファス�陵枦澱咾�ら始まり、��中で��業としてはハイブリッドのHIT�陵枦澱咾吠�岐したが、薄膜シリコン�陵枦澱咾砲弔い討盡��|開発を�M(f┬i)��、モジュールとして実�x室レベルでは10%を達成しているという。また薄膜�陵枦澱咾汎韻献廛蹈札垢鮹�いるHIT�陵枦澱咾鱆Q��300MW以���攵�しており、本格的な薄膜�陵枦澱咾悗瞭D組みにあたって「効率、�攵��\術、実績、すべてにおいて他社を圧倒している」と��洋の佐野社長はその��(d┛ng)みを��(d┛ng)調した。

薄膜�陵枦澱咾論仟�(t┤ng)�@��･販売から総合エネルギープロバイダーを�`指す新日本石��(t┤ng)にとっても、石��(t┤ng)��業で培ったハンドリング�\術は直接、薄膜電池の材料であるシラン･ガスの供給に����でき、また、中東など����(t┤ng)国とのパイプをインフラ向けの薄膜�陵枦澱咾糧稜笋�����できる。この不況下で新����業を立ち�屬欧襪砲△燭辰討癲◆嶌�の景気がどうだというよりも、この��業は2020�Q、2050�Qに��く��業と考えている。景気はその間に�v復してくるはずで、��段懸念してはいない」と新日本石��(t┤ng)社長の�ﾋ_進路��(hu━)は述べる。

薄膜�陵枦澱咾砲弔い討蓮‰Hくの新��参入メーカーが�攵���画を発表しているが、「ターンキーで設�△鯑�れてスタートしても、�Mしい」と��洋の研�|開発本�霙垢��氾朕�哉��(hu━)は指�~する。「�wまった�\術であればよいが、この分野は変化し、成長してゆく分野。我々は30�Q培った�\術の蓄積があり、その�\術��が効いてくる」と�O信をみせた。