半導�����]����・材料メーカーは�Q間、研�|開発に売�屬�15〜20%を投じており、研�|開発�Jは今後も�\�jしていく��向にある。このため、IP侵害による��害は無��できない。半導�����]関連�噞のIPは�H様である。����、材料、設��、スペアパーツ、�雕燹▲汽屮轡好謄燹▲愁侫肇Ε┘◆��\術、プロセスレシピ、ベストのウンメソッドなど、これらの分野でのIP��拠・施行が��須となる。

東�B工業�j学�@密工学研�|所　客�^教�bの�j嶋洋�k��は、��3�v東�B工業�j学�@密工学研�|所��財シンポジウム〜　半導��における��財戦�S　〜(2006�Q11月10日ハマギンホールにて開��)での、講演「半導���噞における�\術動向の��点から見た��財�h価への�D組」のまとめで、下記のように語っている。

• 新しく��み出される情報の��を見極め、価値ある情報を企業の�@��とするための努��が��要。そのためには、チップの性����性、���]歩�里泙蝓����]レシピ、検証��データ、それらのデータベースといった、いわゆる��加価値の高いIPを、����を含めた��的財���U度で的確に保護する�e勢及び実行���Uの確立が�_要。


• ��的財��に�瓦垢訶�確な�h価、�D理のできる人材の育成、確保が不可�L。��に、�\術動向を加味した�����h価は、�Oらの����の仕�気��h価が変わる可��性がある。適切な����のために、�\術動向の把�曚��_要で、そのために����情報����するのも�k�}法。






SPIビジネスフォーラム―　�M�vとなる半導��戦�S　―（2004�Q7月8日開��）より
�j嶋��の講演�@料�k���s粋


SEMIは、この度、半導�����]����・材料のIP問��における、見解をまとめて発表した。

SEMI のポジション

1.グローバルIP保護
SEMIは、�O�yで、�o��、且つオープンな��易を�Хeしている。また、WTOの��策を�Хeし、すべての国の���Bや企業がこの��策の��拠を要�个垢襦�

2.���B
最�jの関心を集めているIP保護において、�喇wなIP��策は外国投�@�\�jや�O国�噞のイノベーション�膿覆暴jきく寄与し、国の�W益をもたらす。SEMIは�Q国���Bがそれぞれ、効果的なIP保護��策をとることを奨める。

3.企業
すべての企業は他企業のIPに侵害しないよう心がけるべきである。新��もしくは中古����、スペアパーツ�P入もその����となる。また情報の機密性は遵守されるべきであり、他のパーティと共�~されてはならない。こうした�C理は、企業の経営層のみでなく、すべての階層において徹�fされるものでなければならない。

4.半導�����]����・材料�噞�cのIP問��

4−1　半導�����]����
半導�����]����は先端�\術の集�Tでもある。����のIP問��は、容易に複��可�Δ�IPやスペアパーツ・�雕爐發△襪�、�k�気���������の複��問��にも及んでいる。����メーカーは限られたリソースを限られた����に投入していることを考慮すると、これらの問��により��害を蒙った場合の吸収は��常に困�Mであることがいえる。

4−2　材料
材料メーカーは、新��材料開発に�H�Yのリソースを投じなければならない。しかし、�k端、新��材料が開発された後は、容易に複��が可�Δ箸覆襦�もしIP侵害による被害が深刻化すると、新��材料開発のインセンティブがなくなってしまう。こうしたことから、材料メーカーの半導��業�c�`れも�擇検�他�噞にリソースを投じる��向も出ている。