図　シリコンウェーハ出荷�C積が�v復　出�Z：SEMI

半導���x場が2011�Q��4四半期から2012�Q��1四半期にかけて世�c的に落ち込み、��に2012�Q��1四半期は�i�Q同期比8%��を記�{した。今期のウェーハ出荷�C積は、�i�Q同期比は2%�\しかないが、ようやく�v復基調が見えてきたといえる。SEMIでは、2012�Q����のウェーハ��要は2011�Qレベルと見ているが、これは��3、��4四半期とも同様なレベル（23億〜24億平�汽ぅ鵐繊砲膿��，垢襪噺�ていることになる。WSTSが今�Qの�Pびを0.8%�\と予�Rしたことと符合する。

SEMIが発表したこの数�Cは、���Cウェーハ、エピタキシャルウェーハ、ノンポリッシュウェーハを集��したもので、�陵枦澱喘�のシリコンを含んでいない。