2012Qのシリコンウェーハ出荷C積、iQ横ばいの90億3100万平汽ぅ鵐
SEMIは2012Qにおける半導シリコンウェーハの総C積がiQ比0.1%の90億3100万平汽ぅ鵐舛砲覆辰燭海箸鯣表した。2010Qにはリーマンショックからのv復がすぎたため、11Qにその反動をpけたが、12Qではほぼ横ばいというT果に終わった。

図1 半導シリコンウェーハの出荷総C積 e軸は万平汽ぅ鵐繊―儘Z:SEMI
発表されたシリコンウェーハには陵枦澱咾牢泙泙譴討い覆ぁウェーハメーカーから出荷されたCウェーハとエピタキシャルウェーハを合した数Cである。バージンテストウェーハを含むが、テストウェーハ後に加工した再Wウェーハは含まない。純粋の半導ウェーハが出荷された総C積を表している。
ウェーハC積としては2010Qがピークになっているが、今QはC積ベースで4%成長すると仮定するなら、2010Qのレベルをsき垉邵能jのC積になる。るい材料としては、2012Qは{Jのマイナス成長だった中で、300mmウェーハの出荷C積は垉邵嚢皀譽戰襪肪したとSEMI SMGのチェアマンのBrad Hongは語る。
ウェーハの出荷金Yは2012QにiQ比12%の87億ドルだった。2011QのウェーハC積はiQよりも少したが、その販売Yは2%\の99億ドルとPびた。
(2013/02/13)