����では、0.08μm未満が���i月比23.6%�\とプラス成長を��け、微細化が進んでいるといえる。微細化が加�]する�k�機Å�来の0.08μm以�屬砲弔い討蓮��`立った��少はみられない。これは、��来のデバイスの使われ�気諒儔宗�機�Δ凌焚修覆鼻���加価値を��けることで微細化に頼らず残っているといえる。半導��デバイスは、微細化が����の�f�屬欧鬚靴弔帖⊃靴燭���加価値の創�]によって今後も成長が��くとみられる。

ウェーハサイズ別の�攵��ξ�/実投入数でも、さきほどのμm別MOS�攵��ξ�/実投入数と同様に、12インチウェーハは順調に�Pびている。�k�機�8インチおよび8インチ未満のウェーハは��少していく�lではなく、����を�f�屬欧靴討い襦�

MOS��の�攵��ξ�と実投入数の推�，鬚澆討澆襪函��n働率は今四半期の�攵��n働率は89.5%で、�i期の90.7%から1.2%��少している。3Q07、4Q07、1Q08は3期連��で90%を��えていた。今後の�n動の推�，鮓�守りたい。