国内のウェブニュースでは通信社のロイターからのニュースをそのまま流しているが、��(sh━)国のEE TimesやEDNでは、ブルームバーグもニュースソースに�{加している。6月8日のEDNによると、��(sh━)国時間同日午後2時にウェーハプロセス工場に�u接するサポーティングビル（��集室�R：ガスや純水等を?y┐n)��]しているファシリティ関係のビルと思われる）で爆発が��きた。Fab32のビルで作業していた��業�^は�c�Mしたが、すぐにこのウェーハプロセスの工場に戻った。チップの�攵�には影�xはないとしているが、爆発の原因などについては調�h中だという。

LED照��に関わる材料メーカーが�攵��\��(d┛ng)に乗り出しているという報�Oもあった。6月12日の日本経済新聞によると、住友化学は基��材料のアルミナの�攵�ラインを新設、�攵盋を倍�\させる。��菱化学は蛍光��の�攵��ξ�を7倍に引き�屬�、昭和電工はGaNのNの原料となるアンモニアガスの�攵��ξ�を7割アップ、コニカミノルタは導光��の新ラインを設けた。LED照��の�攵盋を�屬�、低コスト化を推進することで普及に拍�Zをかけることになる。LED電球そのものを��菱化学メディアが国内販売するというニュースは6月10日の日刊工業新聞が報じている。化学企業がLED電球という消�J�v向けの����まで�}を広げてきたととれる。

6月8日の日刊工業新聞は、経済�噞省が工業会やLEDメーカーと共にLED照��の性���h価��(sh┫)法の国際�Y��化に乗り出すと報じた。LED照��の��るさだけではなく演色性（暖かい光や冷たい光などを表現する）の�h価��(sh┫)法の国際�Y��を推進することで日本のLEDメーカーを�мqする。

�~機材料を使ったLEDすなわち�~機EL（�L(zh┌ng)外�@はOLED）照��についての動きも��発だ。東��とソニーが携帯電�Bのディスプレイなどに使われている�~機ELパネルの量�僝のために統合する動きを6月8日の日経が伝えている。また、�~機ELディスプレイの開発メーカーであるパイオニアと、�~機EL材料の��菱化学が、�~機EL照��の営業・マーケティング会社を共同で設立するというニュースを11日の日経が報じている。�~機ELはLED照��ほど��るくはないが、表��(j┤)やバックライト、暗い場所での照��など、��るさを�{求しない分野への応��が始まっている。

次に、日本でも純粋のファウンドリビジネスが誕�擇靴燭海箸鮑里��屬欧燭�。イスラエルのファウンドリであるタワージャズ（Tower Jazz Semiconductor）が兵�U県�ﾏ呑xにある��(sh━)マイクロン（Micron Technologies）社の工場を�A収した、と日経�噞新聞が7日に伝えた。タワージャズは先端的な微細化プロセスを��要としないアナログや、ミクストシグナル等を�}�Xける1.0〜0.13μmのファウンドリであり、今�vの提携により8インチプロセスと95nmプロセス�\術を�}に入れた。

日本には優秀で経�x�l(shu┴)富なプロセス�\術�vが�H数いるのにもかかわらず、プロセスに��を�Rがなくなってきた最�Zの半導��メーカーでは、彼らのモチベーションが下がっていると聞く。こういったエンジニアを��い、日本の半導��ファウンドリビジネスによって半導���噞を?q┗)�性化させるためにも、こういったファウンドリ企業が��々誕�擇垢襪海箸魎�待する�?/p>

震�u関係では、ルネサスエレクトロニクスは6月10日に、那�M工場の復旧を1カ月早め9月��にも震�u�iの供給量に戻すと発表した、と6月11日の日経新聞が報じているが、これは記�v会見の場で��らかにしたもの。日経によると、ルネサスは下期には供給量を�Pばしたいが、関�ﾅ杜�や九�ε杜�が電���U(ku┛)限をする場合には、�ﾆ�本地区における代���攵�に�j(lu┛)きな影�xを�pける。��(l┬)�_社長による「半導��は電��供給を�Vめると再�n働に何日もかかる。供給�U(ku┛)限を少なくする��例措��などを認めてほしい」というコメントを紹介している。

富士通セミコンダクターは震�uにより、岩�}工場（岩�}県金ヶ崎）や会�塙{松工場（福��県会�塙{松�x）など5工場が�攵榼�Vしたが、6月9日から半導������の出荷を震�u�iの水��に戻すと、日経が報じた。

被�uからの復旧は��ピッチで進み、今後の先端開発も同時並行で進められている。6月10日の日経新聞は、国内の半導��メーカーと�L(zh┌ng)外の半導��メーカー、および国内のEUV（�S長13.5nmを�W(w┌ng)��するリソグラフィ）開発に��要な材料を開発しているフォトマスクやレジストなどのメーカーが共同でEUVリソグラフィ�\術を実��化する「EUVL基��開発センター」を設立したと報�Oした。EUVリソグラフィ����そのものの開発はオランダのASMLが先頭を切っているが、マスクやレジストなどの材料は日本企業が��(d┛ng)いため、日本メーカーと共同で開発することでEUVの実��化を早めるというメリットはある。つくばの研�|開発センターに�Q社からのエンジニアを集めるとしている。

しかし、EUV開発はベルギーのIMECでも��(sh━)国のSEMATECHでも開発しており、日本の材料メーカーもすでに参加している。今�vの開発センターには、先端プロセスの開発が��要なNANDフラッシュの東��に加え、インテル、サムスン、TSMCも参加する。EUVのような��微細加工�\術が欲しい東��の参加は理解できるが、先端�\術開発はやめると�x言したルネサスの参加の立ち位��が今�kつわかりにくい。材料メーカーにとって、インテルとサムスン、TSMCが���k線のエンジニアを日本に送り込んでくれるのであればメリットはある。