半導��業�cでは、NECエレクトロニクスとルネサステクノロジが合��すると��業�^数が�Hすぎる、と指�~する�mが今でも�咾ぁ�親会社と経済�噞省の�T向で合��した�lだが、この問��については合���iから言われていた。ルネサスエレクトロニクスが2010�Q4月に誕�擇靴�2�Q経ち、ようやく��来の問��を解��する�疑砲鮓�せたということになる。

��業�^を削��するということはそう�~単ではない。1980�Q代のシリコンバレーで不況になるとリストラを繰り返していた企業が、残された��業�^のモチベーション低下に気がついたのは2000�Q代に入ってからだ。このため、「企業は人なり」を理解している企業は�~単には��をきらない。リーマンショックで売り�屬欧�����した時でさえ、リニアテクノロジーのボブ・スワンソン会長は、誰ひとり切らなかったと誇らしげに語った��人を��らさずに次の成長を考えることこそ、半導��経営�vの腕の見せ所だ、と言わんばかりに�O慢した。

今�v、ルネサスは早期��職プログラムを��画するにあたり、��職金や��別加�Q金1000億����を���屬靴覆韻譴个覆蕕覆い箸いΑ�この�J��を��出するために日立��作所、��菱電機、NECに�мqを要�个垢襪畔鵑犬討い襦�しかし、親会社がこの要求に応じるかどうか、まだ確定しない。これからのルネサスを考える場合、残された��業�^のモチベーションをどのようにして�屬欧襪�、という�疑忘�定も����である。ルネサスが成長路線へ転換するためには「人」が最�jの要素となるからだ。

鶴�K工場（��式�@称はルネサス�儼船札潺灰鵐瀬�タ）をTSMCに売却するのは、システムLSIを���]しているからだとしているが、��業�^1400�@はTSMCが引き�Mぐと報じている。詳細は、本日28日�D�気�ら予定されている、ルネサスとTSMCとの協業に関する記�v会見で述べられるのではないかと思う。この記�v会見にはルネサスのMCU��業本�霙垢�TSMCのスペシャルテ��・テクノロジー担当役�^が出席することになっている。

ただ、ルネサスに関する報�O記��が��しい�eを�Wいているかどうか疑問は残る。エルピーダが破�Vした後に�jきな���Cを���屬靴織襯優汽垢矼eない、というトーンの記��が新聞や週刊誌の報�Oで見られる。しかし、�i向きの発言はほとんど報�Oされない。例えば�i�vの���Q報告記�v会見でCEOの�桂_�S��がマイコン、中でもアナログ�v路混載マイコンや40nmのハイエンドマイコンRH850をはじめ、携帯電�BではLTE向けモデムとアプリケーションプロセッサで世�cのスマートフォン�x場へ�]って出ようとするルネサスモバイルなど、�i向きの����戦�Sを初めて述べた。ルネサスモバイルの�L外売り�屬欧呂海譴�ら�Pびそうな気配でデザインインは�L外9�P、国内5�Pで�L外比率が高い。にもかかわらず、こういった�i向きの����戦�Sを初めて語ったという��実を採り�屬欧織瓮妊�アは少ない。

今�vのリストラ報�Oとは違い、未来に向けたニュースもあった。ソニーはCMOSセンサで出��れたものの、光をたくさん採り入れられる裏�C照�o型センサで�k気に�x場シェアを�屬欧�。積層型CMOSセンサをスマホ向けに外販していく、と23日の日経�噞新聞が伝えた。ただ、これまでもTSV�\術を使ったCMOSセンサを出荷しており、アップルのiPhoneに採��された実績がある模様で、��しくは外販を�啣修靴討い�、というべきだろう。

OKIは電子機�_のEMSサービスを�啣�、売り�屬�15%�\を�`指す、と23日の日刊工業新聞が報じた。同社は通信インフラ機�_向け�j型�H層基��の実�▲薀ぅ鶺�業に2億5000万��を投じ、�O動化による作業効率を�屬欧襪海箸膿靴燭片�要に�官�するとする。もちろん、�lフリーはんだプロセスを使う。

22日の日刊工業新聞は、�X電変換素子を電源とするワイヤレスセンサネットワークを��田��作所が�O動�Z向けに提案する、という記��を掲載した。このセンサネットワークには�A収したフィンランドのVTI社のMEMS圧��センサを使い、エンオーシャンのエネルギーハーベスティング�\術を�W��するとみられる。

��湾のUMCは6400億��を投�@して��南�x内に28nm/20nmプロセスの300mmウェーハラインを建設する、と23日の日経�噞が伝えた。このほど��工式を行い、2014�Qの�n働を�`指す。28nmでTSMCがトラブルを��こしたと伝えられ、ライン不�Bになった要因がスマホやタブレット��のアプリケーションプロセッサ��要であったことから、UMCは投�@に踏み切った。アプリケーションプロセッサはこれからもますます微細化が��要になることははっきりしており、10nm��プロセスを���△垢襪海箸盖瓩瓩蕕譴襪世蹐�。