�噞�\術総合研�|所がEUVリソグラフィを導入して5nm以下のプロセス開発を�мqする、と22日の日本経済新聞が報じた。これはIntelとの共同で�D�△垢訐菽屡焼���の研�|開発拠点に導入する。1000億��を投じるという。�k�機�日本にファウンドリ工場を新設するとしていた��湾のPSMCがSBIとの提携解消について理�yを述べている。また、QualcommとArmとの係争が��化している。