10μm径で深さ125μmの楉姪填砲Aviza社が試作
(sh━)Aviza Technology社は、3次元SiP]に向けた楉鵡Ψ狙プロセスにRしている。セミコン湾において同社が出tした理y(t┓ng)はまさにこの点にある。つまり湾では今、LSIパッケージメーカーが楉鵡Ψ狙\術の開発にRしているからだ。
13日午i中の基調講演で述べた、湾ASE グループ社ジェネラルマネジャー兼チーフR&DオフィサーのHo-Ming TongF士の内容を裏けるかのように、この楉鵡Ψ狙にはパッケージングメーカーだけではなく、メモリーメーカー、材料メーカーまでもがコラボレーションしている。
この楉鵡Δ魯瓮皀蝓璽船奪廚魏申も_ねるのに威を発ァする。DRAMだけではなく携帯電Bに応されているようにDRAMとフラッシュメモリーを_ねる応もHい。1つのLSIパッケージに入れたメモリー容量をパッケージを厚くすることなく~単に\やせるからである。応は携帯電Bにとどまらず、PDAやiPod、iPhoneなど映気箍気鯑Dり込む携帯デバイスなどにも要がある。メモリー容量はHいのに越したことはない。
この楉鵡Δ鬟ΕА璽魯廛蹈札垢虜埜紊坊狙する場合にはリスクが高くなる。失`がされない。かといって最初からウェーハを削るわけにはいかない。割れるリスクが伴うからである。Avizaのプロセスはウェーハプロセスの比較的始めの段階で深い溝をEり、その中に金錣鳬mめ込み楉姪填砲魴狙するもの。すでに、直径10μmで深さ125μmという極めてアスペクト比の高い楉鵡Δ魴狙している。楉鵡Δ賄ながら屬ら下まで均kな直径で形成されなければならない。B^が高くなってはT味がないからだ。
楉姪填砲蓮▲┘奪船鵐亜CVD、エッチング、バリヤメタル\積などの工を経て形成される。に深いエッチングを行った後は、コンフォーマルなCVD形成やPVD\術が_要になる。深いエッチングにしても、125μmととてつもなく深い溝の形成には、単純なエッチングでは形成できない、と同社PVD,CVD&エッチンググループ担当副社長兼ジェネラルマネジャーのKevin T. Crofton(hu━)は言う。エッチング]度を確保しながら、エッチングとデポジションを繰り返しながら穴をEって行くのだという。
この楉鵡Δ侶狙は単なる実xではない。パッケージングアセンブリメーカーと、IDMやファウンドリなどの半導メーカーともコラボレーションして、要求仕様を聞いている。Crofton(hu━)は、今LSIパッケージングの80%はワイヤーボンド\術で電極をTんでいるが、5〜10Q後には50%が楉姪填砲砲覆襪箸澆討い襦