この薄膜のリチウムイオン電池は、電解��を�w��化しスパッタや�^��などの真空����で�攵�できる。この薄膜リチウムイオン電池は、��極と負極に電極������層、電極集電層、�w��電解��層、封�V層という4つの�霾�から構成されている。��極のコバルト�┘螢船Ε燹�LiCoO2）と�w��電解��のリン�┘螢船Ε燹�Li3PO4）、電極集電層は����式スパッタ����(SME-200J)で形成する。電極集電層は負極�笋任�NiかCuを、��極�笋任�MgO/Ti/Ptをそれぞれ使う。負極の金�錺螢船Ε爐録振��^��機(ei-5)で形成し、�~機膜・バリヤ層・�~機膜の3層構�]からなる封�V層は����式�^���_合����（PME-200）で形成する。

�w��電解��を使うため、��来のリチウムイオン電池で懸念材料であった�]��れの心配がなく、爆発や発��の心配もない。薄膜で形成する電池であるため、半導��のプレーナダイオードのような構�]をしている。

スパッタ����はDC、RFマグネトロンスパッタ��(sh┫)式であり、��極のLiCoO2を形成した後にそれを�T晶化させるためのRTA（高�]アニール）室など最�j(lu┛)5室のプロセスチャンバを�eつ。スパッタリングターゲットは��極にLiCoO2、�w��電解��にLi3PO4を開発している。アルバックマテリアルは高密度で均�kに作ることに�R��した。直径440mmの�j(lu┛)型ターゲットも開発している。プラズマダメージを�v�cするための工夫を施しているとしている。

成膜するのは��極がLiCoO2、電解��はLiPON、負極がLiであるが、ターゲットには��極、電解��とも��素が�Hく含んでいるため、窒素でターゲットを�恩気靴得�膜する。�w��電解��のスパッタレートは5.4μm/時と��来よりも3倍以���]い。

封�V層はWLP（ウェーハレベルパッケージ）のようにデバイスに被�戮垢襪錣韻世�、水�^気を吸いやすい�~機膜を保護するため、バリヤ層をコーティングして水�^気による劣化を抑えた。

�C積20mm×20mmのセル��性�覦茲鮑���したNuricell社のLiイオン電池では、トータルの厚さが50μmで、動作電圧は3.0~4.1V、電流容量は0.5~1.0mAh、最�j(lu┛)電流が15mA動作�a(b┳)度-20〜120℃という��性が�uられている。この薄膜電池をICカードにも実�△靴仁磴鮨�している。

今�v、アルバックはこの試作��をSEMICON Japanで�t��した。この試作��や�\術を�邵澹楜劼妨�てもらい、その反応を見ながら新しい可��性を探っていくとしている。