2nmプロセスのSRAMセルは6個から4.4個のトランジスタに少〜IMEC
ベルギーにある半導研|所のIMECが今週はじめ、東BでIMEC Technology Forumを開した。ここ2〜3Q、このフォーラムではIoTやAI関係の半導応の発表例がHかった。このため、CEOのLuc Van den Hove(図1)は、日本企業に瓦靴・材料メーカーとシステム企業に参加を期待していた(参考@料1)。今Qは違った。本流のムーアの法Г膿抱tがあった。

図1 IMEC CEOのLuc Van den Hove
ムーアの法Г行き詰っていることは、IMECも当認めているが、そう~単にはあきらめない。微細化の{求の未来気鱸Wく中で、ムーアの法Г旅圓詰まりを乗り越えるため3次元化も進めている。応として半導チップでなければ実現できない医や、イメージング\術、IoT、O動運転などについても{及している。すなわち、て同時に{求しており、ムーアの法Г行き詰っているから、もう微細化は{及しない、というlではしてない。やってみなければわからないからだ。
今v、3nmの先、2nm、1nmプロセスになった時に何がきるか、トランジスタ構]やIC構]はどうなるか、について新提案を行った。これまでのSRAMはプロセッサのk時記憶であるフェッチやバッファ、レジスタ、キャッシュなど、さまざまな機Δ忙箸錣譴討たが、やはり1メモリセルあたり6個のトランジスタを平C屬忘遒蟾む要があった。ところが、今vIMECがしたのは、平C屬ら見たSRAMトランジスタは1メモリセルあたり4.4個のトランジスタしかない、というもの。
これば、トランジスタ構]と電源ラインという二つの改要因による。トランジスタ構]はFinFETの次に来るGAA(ゲートオールアラウンド)構]をWする (図2)。GAAは、ゲート金-ゲート絶縁膜-シリコンというMOS構]においてシリコン笋砲任る空層を峅失4カ所閉じ込めてしまい、空層によるドレインリーク電流、そしてサブスレッショルド電流を抑え込んでしまおう、というもの。FinFETでは3カ所を抑え込めたが、GAAは周囲てをふさぐのだ。オフ時のリーク電流はり、消J電も少する。
図2 GAA構]のpMOSとnMOSを_ねてSRAMを小さくする 出Z:IMEC
ただし、これだけでは来から提案されていたGAAだが、今vはCMOSを作るためのpチャンネルとnチャンネルのMOSFETを_ね合わせてしまおうというもの。図2のCFETと}ぶトランジスタの念図がこれである。pMOSFET(ピンク)とnMOSFET(ブルー)がe妓にスタックされるため、平C屬ら見るトランジスタC積はjきくることになる。
これに加えて電源ラインも工夫した。これまではBEOL工の配線覦茲俣H層配線としてVccと接地ラインの2本を作り込んできた。この電源ラインを半導バルク内にmめ込んでしまうのである(図3)。当Vccと接地ラインの2本の電源ラインが要。図3はSRAMセル構]の電源ラインをmめ込む例をしている。ただしこの図ではpMOSFETとnMOSFETは_ねてWいていない。IMECは、電源ラインをmめ込んだデバイスをすでに試作している。
図3 2本の電源ラインをバルクSiにmめ込む 出Z: IMEC
これら二つの\術を導入することでSRAMセルの平Cから見たトランジスタ数は4.4個になるとIMEC Technology Solutions and Enablement靆腓VPのMyung Hee Naは述べている。IMECは3nm以下をNA(Numerical Aperture)の0.55と高いEUVリソグラフィで乗り越えられると見ている。
SRAMセルはマイクロプロセッサやFPGA、AIチップにはj量に使われており、そのチップC積をjきく左してきた。これがもし4.4トランジスタになれば、チップC積は約2/3に少することになる。MPUやFPGAは高度なデバイスさえもW価にできるようになれば、組み込みシステムやコンピュータ、IoTはWくなり、噞的なインパクトはかなりjきくなろう。2nmや1nmの時代が来るとすれば、人間の頭Nの神経細胞の数を、AIチップなど人工的な神経細胞の数がえる「シンギュラリティ」(2045Q頃と言われている)にk歩Zづくことになる。
最Zはシンギュラリティに関する議bがめっきりっているが、人間に神経細胞にZづくことは不可Δ世箸いαT見が配的だからであり、それに到達できる\術的}段がく浮かばなかったためだ。しかし、半導\術がこれを可Δ砲垢襪覆蕕弌▲轡鵐ュラリティはく不可Δ世噺世だ擇譴覆なる。2〜1nm\術が見えてくる2030Q代はC白い時代に入りそうだ。
参考@料
1. \術とシステム、ソフトとハードが融合する時代へ (2017/11/28)