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TI、GaNとドライバICを1パッケージに集積したモジュールを化

TI、GaNとドライバICを1パッケージに集積したモジュールを化

GaNやSiCのような高]のパワー半導は性Δ陵グ明は確にあるものの、ノイズやオーバーシュート、アンダーシュート、リンギングなどプリント基屬濃箸い砲さが残る。ノイズを抑えるドライバICがカギを曚襪海箸鬚垢任謀舛┐燭(参考@料1)、ドライバICとGaNパワートランジスタを集積したモジュール(図1)をTexas Instrumentsが開発した。 [→きを読む]

新Imagination Technologies、RISC-V CPUとGPUのIPでM負

新Imagination Technologies、RISC-V CPUとGPUのIPでM負

英国のIP(Intellectual Property)ベンダーのkつ、Imagination Technologiesの経営陣が来日、Imaginationの変貌ぶりを伝えた。CPUはRISC-V、GPUはかつての主POWERVRのポートフォリオをローエンドからハイエンド、さらにAシリーズからDシリーズへと進化させている。AIはCPU+GPUがカギとなる。応もかつての主要1社からH岐に渡る。 [→きを読む]

Analog Devices、GaNパワーFETを~動するシリコンICでGaNv路設を容易に

Analog Devices、GaNパワーFETを~動するシリコンICでGaNv路設を容易に

Analog Devicesは、GaNパワーFETのゲートをドライブするためのシリコンのドライバICを2023Qに新として発売していたが、このほどその背景についてらかにした。GaNパワーFETはシリコンのパワーMOSFETと比べて、絶縁耐圧が10倍高く、電子‘暗戮2000cm2/Vsと高く高]動作に適している。k機高]すぎて使いにくい点もある。 [→きを読む]

Arm、モバイルにも~単な收AIを搭載できるサブシステムIPを開発

Arm、モバイルにも~単な收AIを搭載できるサブシステムIPを開発

IntelやAMD、Qualcommまでがパソコン向けのAI機ζ鼎SoCプロセッサを発表し、パソコンにAI機Δこれから入っていく時代になるが、スマートフォンのようなモバイルにもAI機Δ入っていく時代になりそうだ。モバイル半導IPの覇vArmがAI機Δ鯏觝椶任る新IP「Arm Compute Subsystems(CSS)for Client」を発表した。電効率が高いことが最jの長となる。 [→きを読む]

SiTime、4つのSoCに同時にクロック信、鯀れるICを化

SiTime、4つのSoCに同時にクロック信、鯀れるICを化

MEMSをWする振動子と発振v路、クロック発昊_を1パッケージに実△靴織ロックICは、小型、高性Α低ノイズだけではなく、クロック周りのプリント基設も~易にしてくれる。MEMSベースのクロックICを}XけてきたSiTimeが4つのSoCを同時にクロックできる4出のクロックIC「Chorus」を化した。 [→きを読む]

ラピダス、Esperantoとの提携で、TSMCとの違いが確に

ラピダス、Esperantoとの提携で、TSMCとの違いが確に

ラピダスがRISC-VのスタートアップEsperanto Technologiesと交わした提携は、実はここで初めてTSMCとの違いが確に出ていた。Esperantoの会見ではW才CPUデザイナーとも言われるDave Ditzel CTO(図1)も同席していたのだ。彼はかつてソフトウエアによる工夫でX86互換プロセッサを設し、今はRISC-Vの設を率いる。彼がTSMCとの違いを確にした。 [→きを読む]

Micron、232層でQLC(4ビット/セル)のNANDフラッシュSSDを量凮始

Micron、232層でQLC(4ビット/セル)のNANDフラッシュSSDを量凮始

Micron Technologyは、512GBから2TBまでの容量をeつ、クライエントSSD(半導ディスク)「Micron 2500 NMVe」のサンプル出荷を開始した。このSSDには232層でQLC(Quad Level Cell)をeつNANDフラッシュ(図1)を搭載している。また、このNANDフラッシュを搭載した企業向けストレージ顧客向けの「Crucial SSD」は量を開始した。 [→きを読む]

高NA EUVリソグラフィ1、Intelオレゴン工場に導入、組み立てた

高NA EUVリソグラフィ1、Intelオレゴン工場に導入、組み立てた

Intelは1.8nmプロセスノードに相当するIntel 18Aに向け、オランダASML社の高NAのEUVリソグラフィ「TWINSCAN EXE:5000」(図1)をプロセス開発拠点のあるオレゴン工場に導入した。まずIntel 18Aプロセスノードから導入し、Intel 14Aノードへと拡張していく予定だ。Intelのファウンドリ業陲導入しTSMCに{いつき{い越す画を進める。 [→きを読む]

Infineon,SiCのセルの微細化、新ダイボンディング\術で性Α信頼性を向

Infineon,SiCのセルの微細化、新ダイボンディング\術で性Α信頼性を向

Infineon Technologiesは、2世代のトレンチ構]のSiC パワーMOSFET「CoolSiC MOSFET G2」を3月に発表していたが、このほどその詳細についてらかにした。このG2(2世代)では、オンB^を1桁ミリオームに下げると共に、XB^を12%らし電流容量を屬欧拭新は650Vと1200Vの2|類で、パッケージもピンU入型と表C実型をTする。G2でパワーMOSFETのチップ設から見直している。 [→きを読む]

STMicroelectronics、AI・IoT応をT識、マイコンのポートフォリオを拡j

STMicroelectronics、AI・IoT応をT識、マイコンのポートフォリオを拡j

STMicroelectronicsがマイコンのポートフォリオを拡jしてきた。小さな陵枦澱咾覇虻遒垢襯┘優襯ーハーベスティングのマイコンから、さらにはハイエンドマイコンとしてコスト効率の高いCortex-A35とCortex-M33を集積するSoC+MCUまでSTM32シリーズとして拡jした。今後18nmノードのFD-SOIプロセスPCMメモリ集積マイコンも24Q後半サンプル出荷する予定だ。 [→きを読む]

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