6インチのGaN on Siウェーハで1 mm2のパワーLEDチップの光出が634mW
ドイツのフィリップスから独立したLEDメーカーであるオスラム社(OSRAM Opto Semiconductors:www.osram-os.com)は、6インチSiウェーハ屬GaN層を形成し、E色LEDおよび黄色い薄膜を被戮気擦診鮨LEDを開発、試作量ラインに流した。使われたシリコンウェーハはx販のものをいた。

図1 開発した6インチウェーハ屬GaN LED
E色LEDの原料となるGaN層は、サファイヤ(主成分Al2O3)やSiC基をいて成長させるが、どちらの基も高価である。シリコンは地球屬任2番`にHい元素であり、原料不Bは人為的に供給をVめない限りありuない。LEDのチップC積をjきくするパワーLEDにはメリットはjきい。シリコンはウェーハをj口径化しやすいからだ。
今vuられた性Δ蓮Å来のサファイヤ基で作ったものとほぼ等しいという。性εに最もよかったチップは、順電圧3.15V、光出634mWと極めてるい。量子効率は58%としている。しかもこの数CはチップC積1mm2というjC積(来は0.25〜0.3mm角、すなわち0.0625〜0.09mm2だから10倍以屐砲離船奪廚任△蝓△修譴鬟スラムのYパッケージであるGolden Dragon Plusパッケージに実△掘350mAで~動した時の値である。照LEDの度としては~動電流350mAで140 lmであり、色a度4500Kでの効率は127 lm/Wである。
これが実化されれば、LEDのコストをj幅に下げることができるようになる。6インチウェーハで1 mm2のLEDチップは1万7000個採れるようになる。8インチウェーハでの試作成功例はこれまでもあるが、6インチで商化に向けラインにのせてみて試作したのはこれが初めて。
図2 ]プロセス 出Z:OSRAM Opto Semiconductor
今vの]法は、シリコンウェーハ屬縫丱奪侫〜悗魏陲靴GaNをエピ成長させ、LEDを形成した後、ミラーとコンタクト霾を設ける(図2)。その後、Si基を除去し別のSiウェーハを表C笋貌Dりける。最終的なシリコン基は実屐∧X性がGaNよりもよく、性εに光を放出しやすい構]になっているようだ。
OSRAMはすでに実化するための条Pでテストを始めており、ウェーハもパイロットラインで流している。このことから2Q以内には実化できると同社は見ている。