STマイクロがファブライト戦Sを採りながらもIDMにこだわる狙いとは

STマイクロエレクトロニクスは、日本時間2月27日にバルセロナのCCCB(Centre de Cultura Comtemporania de Barcelona)においてジャーナリスト・投@アナリスト向けの会見を開、MEMSとMCUに関する現Xを紹介すると同時に、FD-SOIプロセスの戦S疑砲鮓譴辰拭平1)。 [→きを読む]
» セミコンポータルによる分析 » \術分析 » \術分析(プロセス)
STマイクロエレクトロニクスは、日本時間2月27日にバルセロナのCCCB(Centre de Cultura Comtemporania de Barcelona)においてジャーナリスト・投@アナリスト向けの会見を開、MEMSとMCUに関する現Xを紹介すると同時に、FD-SOIプロセスの戦S疑砲鮓譴辰拭平1)。 [→きを読む]
神戸j学と先端電子\術開発機構(ASET)は共同で、4096本のTSVバスをeつインターポーザを介して、メモリチップとロジックチップを積層した3次元ICを試作、100Gバイト/秒の高]データ伝送を実証した。これを櫂汽鵐侫薀鵐轡好海燃かれたISSCC(International Solid-State Circuits Conference)で発表した。 [→きを読む]
カーエレクトロニクスに搭載するパワーMOSFETをリードレスパッケージに収容しても200Aを流すことのできる実\術を、インフィニオンがらかにした。これまでのD2PAK型パッケージでは180Aが最j電流だったが、新開発のTO-LL表C実型パッケージは200Aまで流せることで、インバータの小型化につながる。 [→きを読む]
経済噞省・NEDO(新エネルギー・噞\術総合開発機構)がмqする「低炭素社会を実現する低電圧デバイスプロジェクト」の成果報告会が行われ、低電圧\術の進tが発表された。原子レベルの微細化にZづくにつれ、不純餮胸劼留惇xが顕著に表れるようになってきている。動作電圧を下げ、原子レベルに挑戦する試みがこのプロジェクトである。IEDM2012でも発表された\術も含めいくつか紹介する。 [→きを読む]
半導噞の鬩F、フェアチャイルドセミコンダクター(Fairchild Semiconductor)がSiCのバイポーラトランジスタを来Qi半に化する。日本メーカーのMOSFET、ドイツインフィニオンのJFETにわるSiC3のトランジスタとしてのバイポーラも登場という位けになる。 [→きを読む]
プラスチック基屬忘遒辰陵枦澱咾、フレキシブルで折り曲げOyなため、電柱の柱にpって設したり、O動Zの屋根やボンネットの屬棒したりすることができる。反C、光電変換効率がKく、せいぜい8%度しかuられなかったため、広いC積に渡って設しなければ使い颪砲覆蕕覆った。今v、フレキシブルながら効率28.8%という優れモノが登場した。 [→きを読む]
「これまでプロセス世代は2Q間の開発期間を経てきたが、20nmから14nmへは1Qで到達できそうだ」。こう語るのは、グローバルファウンドリーズ(GlobalFoundries)のグローバルセールス兼マーケティング担当峙薀丱ぅ好廛譽献妊鵐箸任△Mike Noonen。アジアQ地でメディアとのロードショーを行い、最終地のと東Bとの間で電B会見を行った。 [→きを読む]
2012Qはじめに日本オフィスを閉じたテセラ(Tessera)社。今はeち株会社としてのT在で、業会社として半導パッケージング\術会社のInvensasと、カメラモジュール会社のDigital Opticsを傘下にeつ新撻謄札蕕箸靴擇泙貶僂錣辰。インベンサス(Invensas)は新型パッケージのソリューションを提供する研|開発会社として再n働し始めた。 [→きを読む]
LEAP(低電圧デバイス\術研|組合)が2012 IEEE Symposia on VLSI Technology and Circuits (通称VLSI Symposium)で3Pものb文を発表した。同研|組合は、コンピュータシステムをb理v路、1次メモリ、2次メモリ、外雉憶と分けて、それぞれの低消J電\術にDり組んでいる。 [→きを読む]
インテル社の22nm、FINFETプロセスをファウンドリとしてWする契約を、新興FPGAメーカーのタブラ(Tabula)社が締Tした。タブラ社は、ロジックを時分割にリコンフィギュア(再構成)することで、これまでのハイエンドFPGAよりも小さなC積でFPGAを実現できる3D Space Timeアーキテクチャを長としてきたベンチャーだ。 [→きを読む]