リチウムイオン電池を10倍長eちさせられる負極材料を英ベンチャーが量へ

シリコンという材料を、リチウムイオン電池の負極に採することで、電流容量を数倍から10倍に屬欧茲Δ箸い試みが始まっているが、充放電の繰り返しによる電極劣化が著しい。この劣化をタKできる\術を英国nexeon社が開発した。まだ試作レベルながら、サイクル命は来並みを確保、電流容量は業cトップクラスの3.1Ahを軽くクリヤーし、4.1Ahをuている。 [→きを読む]
» セミコンポータルによる分析 » \術分析 » \術分析(プロセス)
シリコンという材料を、リチウムイオン電池の負極に採することで、電流容量を数倍から10倍に屬欧茲Δ箸い試みが始まっているが、充放電の繰り返しによる電極劣化が著しい。この劣化をタKできる\術を英国nexeon社が開発した。まだ試作レベルながら、サイクル命は来並みを確保、電流容量は業cトップクラスの3.1Ahを軽くクリヤーし、4.1Ahをuている。 [→きを読む]
ドイツのフィリップスから独立したLEDメーカーであるオスラム社(OSRAM Opto Semiconductors:www.osram-os.com)は、6インチSiウェーハ屬GaN層を形成し、E色LEDおよび黄色い薄膜を被戮気擦診鮨LEDを開発、試作量ラインに流した使われたシリコンウェーハはx販のものをいた。 [→きを読む]
英国のベンチャーPyreos社がMEMSを使い、検出S長が0.7〜500μmと極めて広いIR(軍粟)センサの商ラインを拡充している。欧ΔIMECやLETIが今、研|開発しているテーマ(MEMSのIRセンサ)を先~けた。MEMSメンブレンを使うと、検出するX成分が逃げにくいため、感度が高く、冷却する要がない。 [→きを読む]
MEMSの性Δ屬っている振動子では水晶の性Δ鬯えたも出てきた。ドイツのボッシュ(Bosch)からスピンアウトした櫂汽ぅ織ぅ燹SiTime)社は水晶のき換えを狙い、-40〜+85℃に渡り周S数W定性がわずか±10ppmで、1〜220MHzでプログラム可ΔMEMS発振_を発売し、MEMSICは慣性センサをコアにスマホからセンサネットワークまでの応を可Δ砲垢襯轡好謄爐泙を広げている。 [→きを読む]
最先端のIC開発では28nmの量が始まったが、早くも20nmプロセスを2012Qの3四半期にリリースする、と湾TSMC社のCTOであるJack Sun(図1)は語った。Sunは次の14nm以Tについてもその見通しを語り、ここからはリソグラフィもデバイス構]もjきく変わることを唆している。しかし、O信に充ち溢れている。なぜか。 [→きを読む]
白色LED照の原材料となるサファイヤ基T晶を]すると、サファイヤT晶インゴットを]販売するGT Advanced TechnologyがLED JapanでT在感をした。jきな積のサファイヤ基の8インチ化を可Δ砲掘△靴もインゴット直径当たりの価格も下げられる見通しだ。サファイヤのx場は拡j成長すると見る。t会での同社のY語はGrowth begins here(成長はここから始まる)であった。 [→きを読む]
Siウェーハ屬GaNをエピタキシャル成長させ、GaNパワーデバイスや白色LEDを実化させるベンチャー企業が盜颪鮹羶瓦又出している。このGaN-on-Si\術はもはや研|フェーズではない。実化開発に点が,辰討い襦8堕螢罅璽供叱けにサンプル出荷をしている所もある。 [→きを読む]
Xをよく逃がすが、電気は通さない、という放Xの絶縁材料を、エポキシにフィラー子として混ぜることでX伝導の優れた`脂が使えるようになる日がZい。AlNのフィラーを開発しているトクヤマ、X伝導率の高いエポキシ`脂を研|している関スj学の原田研|室が、マイクロ・ナノファブリケーション研|会で顔を合わせた。 [→きを読む]
盜颪LED(発光ダイオード)専門メーカーのBridgelux社は、8インチSiウェーハ屬GaNの白色LEDを作り、色a度4350Kのクールホワイトで160 lm/Wと、来のサファイヤやSiC基で作ったLED並みのるさを実現した。クラックのないGaNT晶層を実現できたためで、2Q後には商化したいとしている。 [→きを読む]
MEMSx場は比較的中小企業でも参入できるという長がある。それも応に化したメーカーは実にx場をつかもうとしている。マイクロフォンに化するアクースティカ(Akustica)社、水晶発振_のき換えを狙うサイタイム(SiTime)社は、それぞれの応に向け設から]・応\術、てを提供する。 [→きを読む]