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EIDEC、グローバル協で10nmの加工にEUV導入`指す(1)〜要

EIDEC、グローバル協で10nmの加工にEUV導入`指す(1)〜要

EUVのマスク、レジスト\術開発のコンソーシアムである、EUVL基盤開発センター(EIDEC)が最Zの動報告を行った(図1)。S長13.4nmのX線を使うEUVリソグラフィでは、ASMLだけが露光を開発しているが、EIDECは露光以外のEUV基本\術をpけeつ。出@は国内13社で、L外5社も共同研|で参加、原作所とレーザーテックは開発パートナーとして参加、3j学と噞\術総合研|所も参加するkjコンソーシアムだ(図2)。 [→きを読む]

アベノミクスの成長戦S、半導噞の發味気

アベノミクスの成長戦S、半導噞の發味気

アベノミクス3本`の矢に相当する、成長戦Sの要がW倍相から発表された。2012Q度のQ間63兆の設投@Yに瓦靴董∈83Qの間に70兆を`指すことが含まれた。他に、今週、「人とくるまのテクノロジーt」が開かれることでカーエレ\術の半導の発表が富士通、東からあった。半導材料メーカーも相次いで成長戦Sを発表した。 [→きを読む]

日本の半導・FPD]、共に峺いてきた

日本の半導・FPD]、共に峺いてきた

半導]x場がeち直してきた。日本半導]のpRYは5カ月連プラス成長しており、2013Q3月には販売YがpRYをvるほどにが売れた。このT果、B/Bレシオが1.00を割り0.96となったが、悲茲垢襪曚匹離譽戰襪任呂覆い世蹐Α [→きを読む]

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