キヤノンがMolecular Imprints社をA収、ナノインプリント\術を入}
キヤノンがナノインプリント\術のベンチャー企業である、Molecular Imprints社をA収することで合Tした。このニュースが日本経済新聞朝刊に載った2月14日に、キヤノンもニュースリリース(参考@料1)を流した。
先週の金曜日、日経はこのニュースをkCトップで伝えた。Molecular Imprints社は、ナノインプリント\術を使うリソグラフィのメーカーで、微細な半導だけではなくハードディスクのパターニングも狙っている(参考@料2)。キヤノンのニュースリリースでは、本Q2月5日をもってMolecular社の連T子会社化について合Tしたと述べている。
キヤノンは、現在、KrFエキシマレーザー(S長248nm)とi線(S長365nm)のリソグラフィを攵・販売しているが、微細化官はれていた。ArF(S長193nm)レーザーを光源とするリソではオランダのASML、ニコンの2社が}Xけている。キヤノンは微細化レースにおいて脱落したと思われていた。今v、ナノインプリントを}にすることで、同社は再び微細化レースに参入する。
キヤノンのニュースリリースによると、同社は、2004Qに20nm以下の微細加工に向けたナノインプリント\術の研|を開始したとする。セミコンポータルが2008Q12月にMolecular Imprints社の戦Sを紹介した(参考@料2)後の2009Q以T、ナノインプリント\術をいた次世代リソグラフィの量を`指して、Molecular社およびj(lu┛)}半導メーカーと共同で開発にDり組んできたという。
次世代のリソグラフィとして、ASMLがEUV(S長13.5nmのX線)露光の開発を進めており、ニコンは]浸のArFレーザーによるダブルパターニングを推進している。10nm\術がEUVかトリプルパターニングになるのか、まだTbは出ていない。どちらも、1時間あたりに攵するウェーハ数、すなわちスループットが低いため、コストが下がらないという椶澆魴eつ。
ナノインプリント\術は、2008Q時点でのMolecular社の思惑が外れ、22nmのNANDフラッシュに使われていない。量咁導入がややれ気味であり、次世代のリソグラフィのtとして最Z、Bに屬蕕覆なってきた。かつて、3j(lu┛)リソメーカーの1社であったキヤノンが今v、Molecular社A収をめたことで、この\術が次世代微細化\術に浮屬靴討ることになる。
もともと光学機_(d│)メーカーであるキヤノンはレンズをuTとしてきた。ナノインプリント\術は、印と同じ原理でウェーハ表Cに凹をけるため、基本的にレンズを使わない。しかし、キヤノンはレンズを?q┗)かしたカメラだけではなく、インクジェットプリンタや複合機などの分野にも}を広げてきた。リソグラフィにおいても、レンズだけではなく、ステージの機構やロボティクスなどの実績がある。これらの\術を?q┗)かすことで、次世代リソへの再参入をめたのであろう。成功を期待したい?/p>
先週は、ソニーがCMOSセンサーを\するというニュースを、日経が12日に報じた。350億を投じ月ξを25%\やすため、その攵剦張にはルネサスエレクトロニクスからP(gu─n)入する鶴K工場を当てる、とする。日経は、ソニーが鶴K工場のA収をめた理y(t┓ng)を、アップルから]いあったためと報じている。アップルは、iPhoneやiPadなどのに使っているメーカー@をo表しない。アップルにを納入するサプライヤもアップル向けをo言しない。このため、日経は「アップルが来Qにも発売する新型iPhone向けに画汽札鵐機爾龍ゝ詢未鯒椹\させるとみられる」という表現をとっている。
参考@料
1. キヤノンによるモレキュラーインプリント社の完子会社化について ニュースリリース、(2014/02/14)
2. ナノインプリントの量僝は22nm以TのNANDフラッシュ、ハードディスクから (2008/12/24)